摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第8-19页 |
1.1 研究背景与意义 | 第8-10页 |
1.1.1 激光惯性约束聚变概述 | 第8-10页 |
1.1.2 激光惯性约束聚变X射线诊断意义 | 第10页 |
1.2 激光惯性约束聚变X射线诊断技术 | 第10-13页 |
1.2.1 X射线门控分幅相机工作原理 | 第11-12页 |
1.2.2 X射线条纹相机工作原理 | 第12-13页 |
1.3 半导体高速光折变X射线诊断技术的原理 | 第13-14页 |
1.4 半导体高速光折变X射线诊断技术的研究现状 | 第14-17页 |
1.5 本文的研究内容 | 第17-19页 |
第2章 半导体载流子动力学的理论与实验研究 | 第19-33页 |
2.1 载流子诱导半导体折射率变化的理论研究 | 第19-24页 |
2.1.1 能带填充效应 | 第19-21页 |
2.1.2 能带收缩效应 | 第21-23页 |
2.1.3 自由载流子吸收效应 | 第23-24页 |
2.2 X射线脉冲诱导半导体折射率变化的研究 | 第24-25页 |
2.3 半导体载流子的超快过程概述 | 第25-26页 |
2.4 硒化镉载流子的超快动力学研究 | 第26-33页 |
第3章 半导体光折变X射线探测器时间和空间分辨率的研究 | 第33-40页 |
3.1 X射线与半导体作用理论 | 第33-34页 |
3.2 砷化镓和硒化镉中电子级联效应的模型 | 第34-35页 |
3.3 砷化镓和硒化镉中时间分辨率和空间分辨率的研究 | 第35-40页 |
第4章 啁啾脉冲探针光的研究 | 第40-54页 |
4.1 啁啾脉冲的产生与展宽技术 | 第40-46页 |
4.2 超连续谱啁啾脉冲的产生技术 | 第46-49页 |
4.3 超连续谱啁啾脉冲参数的实验测量 | 第49-54页 |
第5章 基于超连续谱技术的材料光克尔性质的单发次测量 | 第54-59页 |
5.1 超连续谱啁啾脉冲的单发次测量方案 | 第54页 |
5.2 超连续谱啁啾脉冲的单发次测量结果 | 第54-59页 |
第6章 总结与展望 | 第59-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-67页 |
附录 | 第67页 |