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基于半导体高速光折变X射线诊断技术的研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第8-19页
    1.1 研究背景与意义第8-10页
        1.1.1 激光惯性约束聚变概述第8-10页
        1.1.2 激光惯性约束聚变X射线诊断意义第10页
    1.2 激光惯性约束聚变X射线诊断技术第10-13页
        1.2.1 X射线门控分幅相机工作原理第11-12页
        1.2.2 X射线条纹相机工作原理第12-13页
    1.3 半导体高速光折变X射线诊断技术的原理第13-14页
    1.4 半导体高速光折变X射线诊断技术的研究现状第14-17页
    1.5 本文的研究内容第17-19页
第2章 半导体载流子动力学的理论与实验研究第19-33页
    2.1 载流子诱导半导体折射率变化的理论研究第19-24页
        2.1.1 能带填充效应第19-21页
        2.1.2 能带收缩效应第21-23页
        2.1.3 自由载流子吸收效应第23-24页
    2.2 X射线脉冲诱导半导体折射率变化的研究第24-25页
    2.3 半导体载流子的超快过程概述第25-26页
    2.4 硒化镉载流子的超快动力学研究第26-33页
第3章 半导体光折变X射线探测器时间和空间分辨率的研究第33-40页
    3.1 X射线与半导体作用理论第33-34页
    3.2 砷化镓和硒化镉中电子级联效应的模型第34-35页
    3.3 砷化镓和硒化镉中时间分辨率和空间分辨率的研究第35-40页
第4章 啁啾脉冲探针光的研究第40-54页
    4.1 啁啾脉冲的产生与展宽技术第40-46页
    4.2 超连续谱啁啾脉冲的产生技术第46-49页
    4.3 超连续谱啁啾脉冲参数的实验测量第49-54页
第5章 基于超连续谱技术的材料光克尔性质的单发次测量第54-59页
    5.1 超连续谱啁啾脉冲的单发次测量方案第54页
    5.2 超连续谱啁啾脉冲的单发次测量结果第54-59页
第6章 总结与展望第59-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-67页
附录第67页

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