| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-15页 |
| ·课题背景 | 第9-10页 |
| ·大口径光栅的制作简介 | 第10-13页 |
| ·全息记录法 | 第10-11页 |
| ·光栅拼接法 | 第11页 |
| ·激光直写法 | 第11-12页 |
| ·光栅刻划法 | 第12-13页 |
| ·研究的目的和意义 | 第13页 |
| ·国内外研究状况 | 第13-14页 |
| ·论文的主要内容 | 第14-15页 |
| 第二章 全息干涉条纹稳定性 | 第15-27页 |
| ·干涉条纹稳定性的表征 | 第15-18页 |
| ·干涉条纹移动对记录条纹对比度的影响 | 第18-19页 |
| ·记录光光强变化对条纹对比度的影响 | 第19-20页 |
| ·温度变化对干涉条纹的影响 | 第20-22页 |
| ·影响干涉条纹空频变化因素 | 第22-25页 |
| ·激光角度变化对干涉条纹的影响 | 第22-24页 |
| ·激光波长变化对干涉条纹的影响 | 第24-25页 |
| ·全息干涉光场稳定控制方法 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 光刻胶吸收及显影特性研究 | 第27-42页 |
| ·光刻胶吸收特性 | 第27页 |
| ·光刻胶吸收率测量实验方案 | 第27-35页 |
| ·监测系统校正 | 第29页 |
| ·不同光刻胶厚度下光刻胶平均吸收率测量实验 | 第29-34页 |
| ·光刻胶吸收率曲线 | 第34-35页 |
| ·光刻胶显影特性 | 第35-36页 |
| ·光刻胶显影速度测量实验方案 | 第36-41页 |
| ·未曝光时显影速度的实验方案 | 第37页 |
| ·充分曝光时显影速度的实验方案 | 第37-38页 |
| ·台阶实验 | 第38-39页 |
| ·光刻胶显影速度曲线 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 光刻胶光栅曝光模型与显影模型 | 第42-49页 |
| ·光刻胶光栅曝光模型 | 第42-46页 |
| ·线性曝光模型 | 第42-44页 |
| ·非线性曝光模型 | 第44-46页 |
| ·光刻胶光栅显影模型 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 光刻胶光栅掩模槽形的控制 | 第49-59页 |
| ·不同RMS下光栅掩模槽形的模拟与实验 | 第49-54页 |
| ·采用线性曝光模型模拟不同RMS下光栅掩模槽形 | 第51-52页 |
| ·采用非线性曝光模型模拟不同RMS下光栅掩模槽形 | 第52-54页 |
| ·高线数下光栅掩模槽形模拟与实验 | 第54-57页 |
| ·不同曝光量下干涉条纹稳定性与光栅槽形结构的对应关系 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 总结与展望 | 第59-61页 |
| ·总结 | 第59页 |
| ·展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |