| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·药物缓释系统 | 第11-16页 |
| ·新型药物缓释系统 | 第12页 |
| ·温敏和磁性药物缓释系统 | 第12-14页 |
| ·温敏磁性复合药物缓释系统 | 第14-16页 |
| ·分子印迹药物缓释系统 | 第16-21页 |
| ·分子印迹技术概述 | 第16-17页 |
| ·温敏和磁性分子印迹药物缓释系统 | 第17-21页 |
| ·量子化学计算在分子印迹中的应用 | 第21-25页 |
| ·分子模拟用于MIPs作用位点和功能单体的优化 | 第21-24页 |
| ·分子印迹位点的模拟 | 第24-25页 |
| ·课题研究目的和主要研究内容 | 第25-29页 |
| ·研究目的 | 第25-26页 |
| ·研究内容 | 第26-29页 |
| 第二章 5-FU分子印迹位点的设计及识别机理 | 第29-45页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·试剂和仪器 | 第29-30页 |
| ·试剂 | 第29-30页 |
| ·实验仪器 | 第30页 |
| ·实验部分 | 第30-35页 |
| ·NIPAM对 5-FU紫外吸收光谱的影响 | 第30-31页 |
| ·5-FU和NIPAM及二者作用位点的优化与模拟 | 第31-34页 |
| ·5-FU印迹位点的设计和模拟 | 第34-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-44页 |
| ·NIPAM对 5-FU紫外吸收光谱的影响 | 第35-37页 |
| ·5-FU和NIPAM及二者作用位点的优化与模拟 | 第37-39页 |
| ·5-FU和NIPAM配比的理论设计 | 第39-41页 |
| ·5-FU印迹位点的识别机理 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 温敏型磁性表面分子印迹聚合物的制备 | 第45-61页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·试剂和仪器 | 第46-47页 |
| ·试剂 | 第46-47页 |
| ·实验仪器 | 第47页 |
| ·结构表征 | 第47-48页 |
| ·实验部分 | 第48-50页 |
| ·Fe_3O_4@C的制备 | 第48-49页 |
| ·Fe_3O_4@C的硅烷化修饰 | 第49页 |
| ·温敏型磁性表面分子印迹聚合物的制备 | 第49-50页 |
| ·结果讨论 | 第50-58页 |
| ·Fe_3O_4@C | 第50页 |
| ·Fe_3O_4@CSi | 第50-53页 |
| ·Fe_3O_4@CSi表面接枝温敏单体 | 第53-54页 |
| ·TMMIPs | 第54-58页 |
| ·本章小结 | 第58-61页 |
| 第四章 温敏型磁性表面分子印迹聚合物的吸附和释放性能 | 第61-73页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·试剂和仪器 | 第61-62页 |
| ·试剂 | 第61页 |
| ·实验仪器 | 第61-62页 |
| ·实验部分 | 第62-64页 |
| ·标准曲线测定 | 第62页 |
| ·吸附动力学测试 | 第62页 |
| ·等温吸附测试 | 第62-63页 |
| ·选择性吸附测试 | 第63页 |
| ·缓释行为测试 | 第63-64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-71页 |
| ·标准曲线 | 第64-65页 |
| ·吸附动力学行为 | 第65-66页 |
| ·等温吸附行为 | 第66-68页 |
| ·吸附选择性 | 第68-70页 |
| ·缓释性能 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-81页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 硕士期间发表的论文及其研究成果 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |