| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-36页 |
| 第一节 飞秒激光诱导材料微纳结构的研究背景及进展 | 第13-22页 |
| ·飞秒激光加工的特点 | 第13-14页 |
| ·飞秒激光诱导材料微纳结构的研究进展 | 第14-22页 |
| 第二节 激光诱导材料表面周期性条纹的历史及发展现状 | 第22-33页 |
| ·连续激光和长脉冲激光诱导材料表面周期性条纹及其理论 | 第22-25页 |
| ·飞秒激光诱导材料表面周期性条纹研究及其理论 | 第25-33页 |
| 第三节 本文主要研究内容 | 第33-36页 |
| 第二章 飞秒激光与硅相互作用原理与数值模拟 | 第36-54页 |
| 第一节 飞秒激光与半导体相互作用基本过程 | 第36-38页 |
| 第二节 二维TTM-Drude模型的建立 | 第38-46页 |
| ·双温模型的研究背景和现状 | 第38-40页 |
| ·二维TTM-Drude模型 | 第40-41页 |
| ·TTM-Drude模型中偏微分方程组的计算方法 | 第41-45页 |
| ·TTM-Drude模型中的参数 | 第45-46页 |
| 第三节 计算结果及分析 | 第46-51页 |
| ·模拟飞秒激光辐照硅表面熔化阈值 | 第47-48页 |
| ·模拟飞秒激光辐照硅表面的烧蚀阈值 | 第48页 |
| ·模拟飞秒激光辐照硅表面光学性质的变化 | 第48-50页 |
| ·模拟电子温度,晶格温度在二维空间上的变化 | 第50-51页 |
| 第四节 本章小结 | 第51-54页 |
| 第三章 飞秒激光诱导硅表面周期性条纹研究 | 第54-74页 |
| 第一节 实验设备及参数测量 | 第55-58页 |
| ·实验设备 | 第55-56页 |
| ·样品的处理 | 第56页 |
| ·参数测量和计算 | 第56-58页 |
| 第二节 单脉冲飞秒激光诱导硅表面近亚波长周期性条纹的研究 | 第58-71页 |
| ·实验方案的选定 | 第58-59页 |
| ·实验结果与分析 | 第59-66页 |
| ·飞秒激光诱导硅表面周期性条纹的竞争机制模型 | 第66-71页 |
| 第三节 多脉冲飞秒激光诱导硅表面周期性条纹研究 | 第71-72页 |
| ·条纹周期随脉冲数目的变化 | 第71-72页 |
| ·条纹空间结构随脉冲数目的变化 | 第72页 |
| 第四节 本章小结 | 第72-74页 |
| 第四章 不同加工环境下飞秒激光诱导硅表面微米纳米结构研究 | 第74-95页 |
| 第一节 不同气氛中飞秒激光诱导硅表面微纳结构的演化过程研究 | 第74-82页 |
| ·飞秒激光在SF_6中诱导硅表面微纳结构的演化过程 | 第75-77页 |
| ·飞秒激光在N_2中诱导硅表面微纳结构的演化过程 | 第77-79页 |
| ·飞秒激光在真空中诱导硅表面微纳结构的演化过程 | 第79-81页 |
| ·飞秒激光在不同气氛下诱导硅表面微纳结构特点分析 | 第81-82页 |
| 第二节 不同气氛中飞秒激光诱导硅表面微纳结构的光学性质研究 | 第82-87页 |
| 第三节 飞秒激光液相加工深亚波长结构研究 | 第87-92页 |
| 第四节 本章小结 | 第92-95页 |
| 第五章 基于飞秒加工技术和软刻蚀技术的微结构PDMS-SERS基底研究 | 第95-111页 |
| 第一节 SERS的研究背景及现状 | 第96-103页 |
| ·拉曼散射的定义 | 第96-97页 |
| ·表面拉曼增强散射(SERS) | 第97-98页 |
| ·表面拉曼增强散射(SERS)的增强机制 | 第98页 |
| ·表面拉曼增强基底的研究现状 | 第98-103页 |
| 第二节 广谱吸收高增强因子的微结构PDMS-SERS基底制备 | 第103-109页 |
| ·微结构PDMS-SERS基底的制备过程 | 第103-104页 |
| ·微结构PDMS-SERS基底表征 | 第104-105页 |
| ·微结构PDMS-SERS基底增强因子的测定 | 第105-108页 |
| ·微结构PDMS-SERS基底均匀性和可重复性测量 | 第108-109页 |
| 第三节 本章小结 | 第109-111页 |
| 第六章 总结和展望 | 第111-116页 |
| 第一节 论文工作总结 | 第111-112页 |
| 第二节 工作展望 | 第112-116页 |
| 参考文献 | 第116-124页 |
| 致谢 | 第124-126页 |
| 个人简历 | 第126页 |
| 在学期发表的学术论文及研究成果 | 第126-127页 |
