直流磁控溅射制备ITO薄膜及增透效果的研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-6页
目录	第6-7页
第一章 绪论	第7-18页
·透明导电薄膜的发展	第7页
·ITO薄膜的理论基础	第7-11页
·ITO薄膜的应用	第11-14页
·制备ITO膜的国内外研究进展	第14-16页
·研究意义及目的	第16-18页
第二章 溅射镀膜的原理	第18-26页
·溅射原理及特点	第18-19页
·溅射特性的表征	第19-21页
·溅射过程	第21-23页
·薄膜的制备方法	第23-25页
·本章总结	第25-26页
第三章 ITO薄膜的制备与表征	第26-47页
·ITO的制备过程	第26-28页
·试验方法	第28-29页
·薄膜的表征	第29-30页
·工艺参数对ITO薄膜光电性能影响	第30-37页
·热处理	第37-46页
·本章总结	第46-47页
第四章 增透膜的设计与制备	第47-52页
·ITO薄膜的增透设计	第47-48页
·SIO_2薄膜的制备	第48-49页
·工艺参数对SIO_2-ITO薄膜透过率的影响	第49-50页
·工艺参数对SIO_2-ITO薄膜表面形貌的影响	第50-51页
·本章总结	第51-52页
第五章 总结	第52-53页
致谢	第53-54页
参考文献	第54-56页
攻读硕士期间发表的文章	第56页