软X射线自支撑闪耀透射光栅的制作
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·自支撑闪耀透射光栅 | 第12-16页 |
| ·工作原理 | 第13-14页 |
| ·特点 | 第14页 |
| ·MIT的研究进展 | 第14-16页 |
| ·单晶硅各向异性湿法刻蚀制作闪耀透射光栅 | 第16-21页 |
| ·(110)单晶硅的性质及特点 | 第16-17页 |
| ·SOI硅片 | 第17页 |
| ·制作方法简介 | 第17-21页 |
| ·选题意义与内容安排 | 第21-22页 |
| 第二章 闪耀透射光栅的基本理论 | 第22-36页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·基本原理 | 第22-23页 |
| ·严格耦合波分析 | 第23-27页 |
| ·TE偏振光 | 第24-27页 |
| ·TM偏振光 | 第27页 |
| ·光栅参数设计 | 第27-33页 |
| ·根据基本原理确定光栅参数 | 第27-29页 |
| ·衍射效率模拟结果与讨论 | 第29-33页 |
| ·本章小结 | 第33-36页 |
| 第三章 单晶硅各向异性湿法刻蚀 | 第36-48页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·腐蚀剂 | 第36-37页 |
| ·腐蚀机理 | 第37-38页 |
| ·湿法刻蚀光栅制作工艺 | 第38-47页 |
| ·湿法刻蚀光栅模型 | 第38-40页 |
| ·影响光栅质量的主要因素 | 第40-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 晶向对准 | 第48-64页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·晶向标定 | 第49-55页 |
| ·原理 | 第50-51页 |
| ·工艺 | 第51-52页 |
| ·实验结果讨论 | 第52-55页 |
| ·标定晶向与低线密度参考光栅的对准 | 第55-58页 |
| ·高线密度参考光栅与全息光刻干涉条纹对准 | 第58-61页 |
| ·原理-莫尔条纹 | 第58-59页 |
| ·对准过程 | 第59-60页 |
| ·误差分析 | 第60-61页 |
| ·低线密度参考光栅与高线密度参考光栅对准 | 第61-62页 |
| ·实验结果 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 增大光栅掩模占宽比 | 第64-76页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·lift-off工艺 | 第64-70页 |
| ·氯苯浸泡 | 第65-67页 |
| ·lift-off光刻胶 | 第67-68页 |
| ·驻波效应 | 第68-70页 |
| ·倾斜镀膜法 | 第70-75页 |
| ·离子束溅射镀膜 | 第71-72页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第72-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第六章 自支撑闪耀透射光栅的制作 | 第76-90页 |
| ·引言 | 第76页 |
| ·SOI基片及检测 | 第76-77页 |
| ·光栅制作工艺流程 | 第77-79页 |
| ·实验结果及讨论 | 第79-89页 |
| ·自支撑结构掩模制备 | 第81-83页 |
| ·光栅掩模制备 | 第83-85页 |
| ·衬底的去除 | 第85-86页 |
| ·湿法刻蚀 | 第86-87页 |
| ·超临界干燥 | 第87-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 第七章 闪耀透射光栅的效率测量 | 第90-96页 |
| ·引言 | 第90页 |
| ·测量方法 | 第90-92页 |
| ·测量装置 | 第90-91页 |
| ·测量光路及方法 | 第91-92页 |
| ·测量结果及分析 | 第92-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第八章 总结与展望 | 第96-98页 |
| ·论文的工作总结 | 第96-97页 |
| ·论文的主要创新点 | 第97页 |
| ·展望 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-110页 |
| 作者攻读博士学位期间发表的论文 | 第110-112页 |
| 致谢 | 第112页 |
