摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-28页 |
·研究背景与意义 | 第11-12页 |
·太阳光谱选择性吸收涂层研究进展 | 第12-27页 |
·太阳光谱选择性吸收涂层的基本概念 | 第12-14页 |
·太阳光谱选择性吸收涂层类型及其工作原理 | 第14-20页 |
·太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法 | 第20-25页 |
·太阳光谱选择性吸收涂层的高温稳定性 | 第25-27页 |
·本论文研究内容 | 第27-28页 |
第2章 实验及方法 | 第28-40页 |
·样品制备 | 第28-32页 |
·镀膜装置 | 第28-29页 |
·镀膜原材料 | 第29-30页 |
·薄膜沉积工艺及参数 | 第30-31页 |
·薄膜真空退火工艺及参数 | 第31-32页 |
·结构分析 | 第32页 |
·薄膜相组成表征(XRD) | 第32页 |
·薄膜表面形貌表征 | 第32页 |
·薄膜成分及化学结合状态表征 | 第32页 |
·性能测试 | 第32-33页 |
·薄膜光学常数测定 | 第32-33页 |
·样品反射率测试 | 第33页 |
·椭偏法测定薄膜光学常数 | 第33-35页 |
·光谱选择性吸收涂层优化设计理论基础 | 第35-40页 |
·薄膜干涉效应 | 第35-36页 |
·特征矩阵法计算光学薄膜系统反射率 | 第36-40页 |
第3章 Ni-AlN 光谱选择性吸收涂层结构优化设计 | 第40-49页 |
·引论 | 第40页 |
·Ni-AlN 金属陶瓷复合膜椭偏参数及光学常数 | 第40-44页 |
·Ni-AlN 光谱选择性吸收涂层结构优化设计 | 第44-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第4章 Ni-AlN 光谱选择性吸收涂层的高温性能退化机制 | 第49-57页 |
·引论 | 第49页 |
·Ni / Ni-AlN(II)/ Ni-AlN(I)/ AlN 光谱选择性吸收涂层的高温性能退化机制 | 第49-50页 |
·Ni 红外反射层真空退火前后反射率及组织结构变化 | 第50-53页 |
·Ni 红外反射层真空退火前后反射率变化 | 第50-51页 |
·Ni 红外反射层真空退火前后表面形貌和结构的变化 | 第51-53页 |
·金属红外反射层对 Ni-AlN 光谱选择性吸收涂层高温稳定性的影响 | 第53-56页 |
·Mo 红外反射层真空退火前后结构及表面形貌变化 | 第53-54页 |
·Mo / Ni-AlN(II)/ Ni-AlN(I)/ AlN 光谱涂层的高温稳定性 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第5章 W 掺杂量对 Ni1-xWx/ Ni-AlN(II)/ Ni-AlN(I)/ AlN 涂层高温稳定性影响 | 第57-66页 |
·引论 | 第57页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx红外反射层高温稳定性影响 | 第57-63页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx红外反射层结构稳定性影响 | 第57-59页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx红外反射层退火前后表面形貌变化的影响 | 第59-61页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx红外反射层退火前后反射率变化的影响 | 第61-63页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx/ Ni-AlN(II)/ Ni-AlN(I)/ AlN 光谱选择性吸收涂层高温稳定性影响 | 第63-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第6章 W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜结构及 Ni1-xWx-AlN 光谱涂层高温稳定性影响 | 第66-79页 |
·引论 | 第66页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜成分与结构的影响 | 第66-75页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜成分的影响 | 第66-68页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜化学结合状态的影响 | 第68-74页 |
·W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜相组成的影响 | 第74-75页 |
·Ni0.82W0.18/ Ni1-xWx-AlN(II)/ Ni1-xWx-AlN(I)/ AlN 光谱选择性吸收涂层结构设计 | 第75-76页 |
·W 掺杂量对 Ni0.82W0.18/(Ni1-xWx)0.46-AlN /(Ni1-xWx)0.28-AlN / AlN 光谱选择性吸收涂层高温稳定性影响 | 第76-78页 |
·本章小结 | 第78-79页 |
第7章 结论 | 第79-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-86页 |
个人简历 | 第86页 |