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W掺杂Ni-AlN光谱选择性吸收涂层高温稳定性研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第1章 绪论第11-28页
   ·研究背景与意义第11-12页
   ·太阳光谱选择性吸收涂层研究进展第12-27页
     ·太阳光谱选择性吸收涂层的基本概念第12-14页
     ·太阳光谱选择性吸收涂层类型及其工作原理第14-20页
     ·太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法第20-25页
     ·太阳光谱选择性吸收涂层的高温稳定性第25-27页
   ·本论文研究内容第27-28页
第2章 实验及方法第28-40页
   ·样品制备第28-32页
     ·镀膜装置第28-29页
     ·镀膜原材料第29-30页
     ·薄膜沉积工艺及参数第30-31页
     ·薄膜真空退火工艺及参数第31-32页
   ·结构分析第32页
     ·薄膜相组成表征(XRD)第32页
     ·薄膜表面形貌表征第32页
     ·薄膜成分及化学结合状态表征第32页
   ·性能测试第32-33页
     ·薄膜光学常数测定第32-33页
     ·样品反射率测试第33页
   ·椭偏法测定薄膜光学常数第33-35页
   ·光谱选择性吸收涂层优化设计理论基础第35-40页
     ·薄膜干涉效应第35-36页
     ·特征矩阵法计算光学薄膜系统反射率第36-40页
第3章 Ni-AlN 光谱选择性吸收涂层结构优化设计第40-49页
   ·引论第40页
   ·Ni-AlN 金属陶瓷复合膜椭偏参数及光学常数第40-44页
   ·Ni-AlN 光谱选择性吸收涂层结构优化设计第44-48页
   ·本章小结第48-49页
第4章 Ni-AlN 光谱选择性吸收涂层的高温性能退化机制第49-57页
   ·引论第49页
   ·Ni / Ni-AlN(II)/ Ni-AlN(I)/ AlN 光谱选择性吸收涂层的高温性能退化机制第49-50页
   ·Ni 红外反射层真空退火前后反射率及组织结构变化第50-53页
     ·Ni 红外反射层真空退火前后反射率变化第50-51页
     ·Ni 红外反射层真空退火前后表面形貌和结构的变化第51-53页
   ·金属红外反射层对 Ni-AlN 光谱选择性吸收涂层高温稳定性的影响第53-56页
     ·Mo 红外反射层真空退火前后结构及表面形貌变化第53-54页
     ·Mo / Ni-AlN(II)/ Ni-AlN(I)/ AlN 光谱涂层的高温稳定性第54-56页
   ·本章小结第56-57页
第5章 W 掺杂量对 Ni1-xWx/ Ni-AlN(II)/ Ni-AlN(I)/ AlN 涂层高温稳定性影响第57-66页
   ·引论第57页
   ·W 掺杂量对 Ni1-xWx红外反射层高温稳定性影响第57-63页
     ·W 掺杂量对 Ni1-xWx红外反射层结构稳定性影响第57-59页
     ·W 掺杂量对 Ni1-xWx红外反射层退火前后表面形貌变化的影响第59-61页
     ·W 掺杂量对 Ni1-xWx红外反射层退火前后反射率变化的影响第61-63页
   ·W 掺杂量对 Ni1-xWx/ Ni-AlN(II)/ Ni-AlN(I)/ AlN 光谱选择性吸收涂层高温稳定性影响第63-65页
   ·本章小结第65-66页
第6章 W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜结构及 Ni1-xWx-AlN 光谱涂层高温稳定性影响第66-79页
   ·引论第66页
   ·W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜成分与结构的影响第66-75页
     ·W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜成分的影响第66-68页
     ·W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜化学结合状态的影响第68-74页
     ·W 掺杂量对 Ni1-xWx-AlN 复合膜相组成的影响第74-75页
   ·Ni0.82W0.18/ Ni1-xWx-AlN(II)/ Ni1-xWx-AlN(I)/ AlN 光谱选择性吸收涂层结构设计第75-76页
   ·W 掺杂量对 Ni0.82W0.18/(Ni1-xWx)0.46-AlN /(Ni1-xWx)0.28-AlN / AlN 光谱选择性吸收涂层高温稳定性影响第76-78页
   ·本章小结第78-79页
第7章 结论第79-80页
致谢第80-81页
参考文献第81-86页
个人简历第86页

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