| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-21页 |
| ·半导体光催化光电催化理论简介 | 第9-12页 |
| ·半导体光催化理论 | 第9-12页 |
| ·半导体光电催化理论 | 第12页 |
| ·半导体光催化活性的影响因素 | 第12-15页 |
| ·半导体内在因素 | 第12-14页 |
| ·半导体外界因素 | 第14-15页 |
| ·复合电极膜材料的概述 | 第15-19页 |
| ·层状钽钨酸盐 | 第15-16页 |
| ·层状钽钨酸盐合成与其纳米片层制备 | 第16-17页 |
| ·纳米片层电极组装方法 | 第17-19页 |
| ·复合电极材料的发展与应用 | 第19页 |
| ·本文工作的研究意义与目的 | 第19-21页 |
| 第2章 钽钨酸及其纳米片层膜电极的制备与表征 | 第21-36页 |
| ·实验部分 | 第21-26页 |
| ·主要试剂与仪器 | 第21-22页 |
| ·LiTaWO_6的制备 | 第22页 |
| ·HTaWO_6的制备 | 第22-23页 |
| ·TaWO_6纳米片层溶胶的制备 | 第23页 |
| ·ITO/(TaWO_6)n电极的制备 | 第23页 |
| ·单层 TaWO_6纳米片层沉积于硅片 | 第23-24页 |
| ·测试与表征 | 第24页 |
| ·电化学和光电化学测量 | 第24-25页 |
| ·模型污染物(RhB)及定量关系 | 第25-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-35页 |
| ·ITO/(TaWO_6)10的制备及 LBL 沉积膜的 UV-vis 光谱 | 第26-28页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第28-29页 |
| ·LBL 膜电极的 XRD 谱 | 第29页 |
| ·ITO/(TaWO_6)10纳米片层电极的电化学与光电化学性质 | 第29-31页 |
| ·ITO/(TaWO_6)10膜电极的光电催化性能 | 第31-35页 |
| ·结论 | 第35-36页 |
| 第3章 石墨烯/TaWO_6复合膜电极的制备与表征 | 第36-53页 |
| ·实验部分 | 第36-38页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第36-37页 |
| ·氧化石墨烯的制备 | 第37页 |
| ·ITO/(G/TaWO_6)10纳米片层电极的制作的制备 | 第37-38页 |
| ·复合电极材料的测试和表征 | 第38页 |
| ·复合电极材料的光电催化性能评价 | 第38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-51页 |
| ·ITO/(G/TaWO_6)10膜电极的制备与检测 | 第38-40页 |
| ·膜电极的 Raman 谱 | 第40-41页 |
| ·纳米片层膜电极的 XRD 分析 | 第41页 |
| ·纳米片层膜电极的电化学与光电化学性质 | 第41-45页 |
| ·纳米片层膜电极的光催化和光电催化降解性能 | 第45-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 SnO_2/石墨烯/TaWO_6复合膜电极的制备与表征 | 第53-70页 |
| ·实验部分 | 第53-55页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第53页 |
| ·SnO_2溶胶的制备 | 第53-54页 |
| ·ITO/(SnO_2/G/TaWO_6)10复合电极的制备 | 第54页 |
| ·复合电极材料的测试和表征 | 第54页 |
| ·复合电极材料的光电催化性能评价 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-69页 |
| ·ITO/(SnO_2/G/TaWO_6)10膜电极的制备与检测 | 第55-56页 |
| ·复合膜电极的 Raman 谱 | 第56-57页 |
| ·复合电极的 XRD 分析 | 第57-58页 |
| ·复合电极的电化学与光电化学性质 | 第58-63页 |
| ·纳米片层膜电极的光催化和光电催化降解性能 | 第63-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第5章 总结 | 第70-73页 |
| ·本文工作的主要结论 | 第70-71页 |
| ·论文的主要创新点和贡献 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第84页 |
