| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| ·磁记录发展状况 | 第8-13页 |
| ·CoPt 垂直磁记录薄膜的发展概况 | 第13-17页 |
| ·论文研究背景和目标 | 第17页 |
| ·论文的研究内容及安排 | 第17-18页 |
| 2 薄膜样品的制备及测试方法 | 第18-31页 |
| ·磁控溅射设备及原理 | 第18-20页 |
| ·薄膜制备及溅射工艺参数 | 第20-23页 |
| ·薄膜样品的磁性能测试 | 第23-26页 |
| ·薄膜样品的微观分析 | 第26-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 3 单层 CoxPt100-x 薄膜制备及性能的研究 | 第31-38页 |
| ·CoPt 二元合金薄膜的相变温度 | 第31-32页 |
| ·成分对 CoxPt100-x二元合金薄膜磁性能的影响 | 第32-36页 |
| ·Ta 底层对 CoxPt100-x二元合金薄膜磁性能的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 4 双层 CoPt/Ta 薄膜制备及性能的研究 | 第38-48页 |
| ·溅射功率对 CoPt/Ta 薄膜磁性能的影响 | 第38-39页 |
| ·氩气压对 CoPt/Ta 薄膜磁性能的影响 | 第39-40页 |
| ·退火时间对 CoPt/Ta 薄膜磁性能的影响 | 第40-44页 |
| ·CoPt/Ta 薄膜与 CoPt 薄膜的微观结构及磁性能比较 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 5 总结与展望 | 第48-50页 |
| ·总结 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第55-56页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第56页 |
