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金属掺杂α-Bi2O3与锐钛矿TiO2(101)表面的第一性原理研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-15页
   ·前沿第10-11页
   ·TiO_2和Bi_2O_3研究背景第11-13页
     ·光催化技术的发展第11页
     ·半导体光催化机理第11-12页
     ·TiO_2与α-Bi_2O_3的研究背景第12-13页
   ·本论文的研究内容与意义第13-15页
第二章 电子结构计算方法第15-24页
   ·电子结构计算方法第15-17页
     ·非相对论近似第16页
     ·绝热近似第16页
     ·单电子近似第16-17页
   ·密度泛函理论第17-21页
     ·Hohenberg-Kohn定理第17-18页
     ·Kohn-Sham方程第18-19页
     ·交换关联能泛函第19-21页
   ·密度泛函理论的数值计算方法第21-22页
   ·计算软件介绍第22-24页
第三章 金属掺杂的α相Bi_2O_3光电化学活性的理论研究第24-34页
   ·引言第24页
   ·计算部分第24-26页
   ·结果分析(结构、能带、态密度)第26-33页
     ·Cu掺杂对α-Bi_2O_3性能的影响第26-28页
     ·Cu掺杂量对α-Bi_2O_3性能的影响第28-30页
     ·几种元素掺杂对α-Bi_2O_3的晶体结构和电子特性的影响第30-33页
   ·本章小结第33-34页
第四章 锐钛矿相TiO_2活性表面(101)面的理论研究第34-39页
   ·引言第34页
   ·计算部分第34-35页
     ·计算方法第34-35页
     ·计算模型第35页
   ·计算结果第35-38页
     ·Bulk TiO_2的结构与电子结构第35-36页
     ·TiO_2(101)表面的结构和电子结构信息第36-38页
   ·本章小结第38-39页
第五章 结论与展望第39-40页
参考文献第40-44页
致谢第44页

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