| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-28页 |
| ·超导材料的概述 | 第11-15页 |
| ·超导材料及其发展历程 | 第11-13页 |
| ·超导材料的分类 | 第13页 |
| ·高温超导材料及其应用和发展前景 | 第13-15页 |
| ·涂层导体的概述 | 第15-20页 |
| ·涂层导体 | 第15页 |
| ·涂层导体的基底 | 第15-17页 |
| ·涂层导体缓冲层材料 | 第17-18页 |
| ·涂层导体缓冲层的制备方法 | 第18-20页 |
| ·涂层导体缓冲层的发展趋势 | 第20页 |
| ·薄膜的外延成相理论 | 第20-26页 |
| ·薄膜的生长与形核 | 第20-21页 |
| ·薄膜微结构的控制 | 第21-22页 |
| ·薄膜取向的控制 | 第22-23页 |
| ·薄膜外延生长机理 | 第23-26页 |
| ·论文研究目的、意义及主要内容 | 第26-28页 |
| 第2章 实验方案设计和表征手段 | 第28-37页 |
| ·实验方案设计 | 第28-32页 |
| ·实验流程和相关设备 | 第28-29页 |
| ·实验相关试剂及CSD法前驱溶液的制备 | 第29-30页 |
| ·单晶衬底的清洗与前驱溶液的旋涂 | 第30-32页 |
| ·实验表征方法 | 第32-36页 |
| ·X射线衍射仪 | 第32-34页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34-35页 |
| ·原子力显微镜 | 第35-36页 |
| 本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 SmBiO_3和YBiO_3缓冲层的快速制备工艺 | 第37-48页 |
| ·快速法和传统法制备缓冲层薄膜的热处理工艺对比 | 第37-39页 |
| ·LAO上快速和传统制备缓冲层薄膜的外延成相工艺对比 | 第39-40页 |
| ·LAO上快速与传统制备缓冲层薄膜外延成相的XRD对比 | 第39-40页 |
| ·LAO上快速与传统制备缓冲层薄膜外延成相的SEM对比 | 第40页 |
| ·两步加热法制备缓冲层薄膜的挥发工艺 | 第40-41页 |
| ·两步法制备的缓冲层薄膜在YSZ上外延温度的影响 | 第41-46页 |
| ·SmBiO_3在YSZ上外延温度的影响 | 第41-44页 |
| ·YBiO_3在YSZ上外延温度的研究 | 第44-46页 |
| 本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 REBiO_3缓冲层薄膜的外延机理研究 | 第48-55页 |
| ·REBiO_3薄膜的固相外延机制 | 第48-49页 |
| ·薄膜与基底的晶格匹配关系 | 第49-51页 |
| ·REBiO_3的晶体结构 | 第49-50页 |
| ·SmBiO_3和YBiO_3缓冲层薄膜与LAO及YSZ的晶格匹配机制 | 第50-51页 |
| ·晶格失配度对外延薄膜的影响 | 第51-54页 |
| 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 攻读硕士期间发表的论文和研究成果 | 第64页 |
