| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·铁电薄膜材料的基本性质 | 第9-14页 |
| ·自发极化与电滞回线 | 第9-11页 |
| ·电畴 | 第11页 |
| ·铁电相变与居里一外斯定律 | 第11-12页 |
| ·介电常数 | 第12页 |
| ·电阻率 | 第12页 |
| ·热释电性 | 第12页 |
| ·铁电体的典型结构 | 第12-14页 |
| ·铁电体及铁电薄膜研究的进展 | 第14-16页 |
| ·FERAM 原理及研究进展 | 第16-19页 |
| ·铁电存储器（FeRAM）器件工作原理 | 第16-18页 |
| ·FeRAM 用铁电薄膜的研究进展及现状 | 第18-19页 |
| ·课题来源与本文研究内容 | 第19-20页 |
| 2 BIFEO_3 薄膜的制备方法与工艺原理 | 第20-33页 |
| ·BIFEO_3 材料简介 | 第20-23页 |
| ·BIFEO_3 薄膜的几种制备技术 | 第23-29页 |
| ·溅射法 | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第25-26页 |
| ·分子束外延 | 第26-27页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第27-28页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射工艺原理 | 第29-32页 |
| ·磁控溅射原理 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜的几个重要参数 | 第31-32页 |
| ·制备设备简介 | 第32页 |
| ·溅射法制备薄膜的特点 | 第32-33页 |
| 3 BIFEO_3 陶瓷耙材的制备与性能分析 | 第33-42页 |
| ·固相反应法制备BIFEO_3 陶瓷耙材 | 第33-35页 |
| ·药品的称量 | 第33-34页 |
| ·研磨 | 第34页 |
| ·预烧 | 第34页 |
| ·造粒 | 第34-35页 |
| ·压片 | 第35页 |
| ·烧结 | 第35页 |
| ·BIFEO_3 材料的热分析 | 第35-38页 |
| ·差热分析原理 | 第36页 |
| ·热重分析原理 | 第36-37页 |
| ·Bi_2O_3、Fe_2O_3 粉末的差热和热重分析曲线 | 第37-38页 |
| ·不同烧结温度下BIFEO_3 陶瓷耙材的结构分析 | 第38-41页 |
| ·本章小节 | 第41-42页 |
| 4 BIFEO_3 薄膜的制备与性能分析 | 第42-56页 |
| ·磁控溅射法制备BIFEO_3 铁电薄膜 | 第42-43页 |
| ·清洗硅片 | 第42页 |
| ·电极材料的制备 | 第42-43页 |
| ·BIFEO_3 薄膜的制备 | 第43页 |
| ·薄膜后处理 | 第43页 |
| ·不同工艺条件对BIFEO_3 薄膜铁电性能的影响 | 第43-49页 |
| ·掺LA 的BIFEO_3 (BLFO)薄膜的性能分析 | 第49-54页 |
| ·BLFO 薄膜的结构分析 | 第50-51页 |
| ·BLFO 薄膜的表面形貌 | 第51-52页 |
| ·BLFO 薄膜的铁电性能 | 第52页 |
| ·BLFO 薄膜的铁磁性能 | 第52-54页 |
| ·小节 | 第54-56页 |
| 5 总结与展望 | 第56-58页 |
| ·全文总结 | 第56页 |
| ·展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
