金属基多梁圆盘式敏感质量加速度计相关技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·MEMS 微惯性器件概况及微加速度计的研究进展 | 第10-15页 |
| ·MEMS 微惯性器件概况 | 第10-11页 |
| ·国内外微加速度计的研究进展 | 第11-15页 |
| ·MEMS 加工方法的概况 | 第15-19页 |
| ·硅基表面微加工方法 | 第16页 |
| ·体硅微加工方法 | 第16-17页 |
| ·LIGA 加工方法 | 第17页 |
| ·其他加工方法 | 第17-19页 |
| ·微电容信号检测及控制方案 | 第19-24页 |
| ·主要微信号检测方法 | 第19-22页 |
| ·系统控制方案 | 第22-24页 |
| ·本论文的研究意义及主要内容 | 第24-25页 |
| 第二章 电容式微加速度计的结构与建模仿真 | 第25-40页 |
| ·微加速度计的工作原理及结构 | 第25-32页 |
| ·工作原理 | 第25-28页 |
| ·金属基多梁圆盘式敏感质量块结构 | 第28-31页 |
| ·自检结构 | 第31-32页 |
| ·阻尼分析 | 第32-39页 |
| ·阻尼系数 | 第32-33页 |
| ·有限元分析 | 第33-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 电容式微加速度计微加工工艺的研究 | 第40-54页 |
| ·微加速度计光刻掩膜板的说明 | 第40-41页 |
| ·微加速度计所用的基本工艺 | 第41-43页 |
| ·正胶光刻工艺 | 第41页 |
| ·溅射沉积工艺 | 第41-42页 |
| ·电镀沉积工艺 | 第42页 |
| ·刻蚀工艺（干法、湿法） | 第42页 |
| ·切片 | 第42-43页 |
| ·基片和金属材料的选择 | 第43-44页 |
| ·微加速度计下极板及中间极板工艺流程 | 第44-49页 |
| ·微加速度计上极板工艺流程 | 第49-52页 |
| ·微加速度计上下极板装配工艺 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 微弱电容检测与闭环电路可行性研究 | 第54-73页 |
| ·差分电容检测原理 | 第54-56页 |
| ·静电力模型 | 第54-56页 |
| ·差分电容检测原理 | 第56页 |
| ·AD7747 评估板检测电容 | 第56-60页 |
| ·AD7747 芯片简介 | 第56-58页 |
| ·AD7747 评估板检测电容 | 第58-60页 |
| ·基于虚拟仪器的微加速度计闭环电路可行性研究 | 第60-72页 |
| ·虚拟仪器进行解调验证 | 第61-66页 |
| ·虚拟仪器进行 PID 控制电路验证 | 第66-68页 |
| ·AD7747 检测电容电路的初步设计 | 第68-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 总结与展望 | 第73-75页 |
| ·工作总结 | 第73-74页 |
| ·工作展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 硕士期间撰写的论文及专利 | 第80页 |
