多孔二氧化硅薄膜的构建及性能研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-25页 |
| ·选题的目的和意义 | 第14-18页 |
| ·多孔SiO_2 薄膜在ULSI 方面的应用 | 第14-16页 |
| ·多孔SiO_2 薄膜在红外探测器方面的应用 | 第16-18页 |
| ·多孔SiO_2 薄膜在其他方面的应用 | 第18页 |
| ·多孔SiO_2 薄膜的制备研究概述 | 第18-23页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积法 | 第19页 |
| ·电化学腐蚀-热氧化法 | 第19页 |
| ·电泳法 | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20-23页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第23-25页 |
| ·论文的主导思想 | 第23-24页 |
| ·实验方案和研究方法 | 第24-25页 |
| 第二章 二氧化硅溶胶的制备及性能研究 | 第25-56页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·SiO_2 溶胶的制备及性质研究 | 第25-35页 |
| ·TEOS 水解-缩聚反应 | 第25-26页 |
| ·实验部分 | 第26-28页 |
| ·实验因素对溶胶性质的影响 | 第28-35页 |
| ·溶胶反应动力学过程 | 第35-38页 |
| ·酸-碱两步法工艺 | 第38-42页 |
| ·实验部分 | 第38-39页 |
| ·酸性胶和碱性胶比例的影响 | 第39-40页 |
| ·酸性胶陈化时间的影响 | 第40-41页 |
| ·碱性胶陈化时间的影响 | 第41-42页 |
| ·有机修饰SiO_2 溶胶的制备及性质研究 | 第42-54页 |
| ·有机修饰剂的选择 | 第42-43页 |
| ·实验部分 | 第43-44页 |
| ·溶胶的粘度 | 第44-45页 |
| ·溶胶的表面张力 | 第45-47页 |
| ·FT-IR 分析 | 第47-51页 |
| ·固态1H NMR 分析 | 第51-52页 |
| ·热分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第三章 多孔二氧化硅薄膜的构建及结构控制 | 第56-102页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·SiO_2 薄膜的制备及结构分析 | 第56-65页 |
| ·实验部分 | 第56-59页 |
| ·薄膜结构分析 | 第59-65页 |
| ·复合PDMS 体系制备SiO_2 薄膜 | 第65-70页 |
| ·实验部分 | 第67页 |
| ·复合PDMS 体系SiO_2 膜结构分析 | 第67-70页 |
| ·薄膜应力研究 | 第70-77页 |
| ·SiO_2 薄膜形成过程中的应力作用 | 第70-74页 |
| ·有机修饰SiO_2 膜应力研究 | 第74-77页 |
| ·薄膜的孔隙率可控性研究 | 第77-88页 |
| ·CH3-PDMS 的影响 | 第78-79页 |
| ·PEG 对薄膜的影响 | 第79-83页 |
| ·退火气氛的影响 | 第83-87页 |
| ·多孔SiO_2 薄膜的形成机制 | 第87-88页 |
| ·多层膜结构控制 | 第88-100页 |
| ·常规热处理工艺 | 第89-90页 |
| ·一次性退火工艺 | 第90-99页 |
| ·碱性胶镀膜 | 第99-100页 |
| ·本章小节 | 第100-102页 |
| 第四章 多孔二氧化硅薄膜的性能研究 | 第102-121页 |
| ·引言 | 第102页 |
| ·多孔SiO_2 薄膜介电性能研究 | 第102-110页 |
| ·介电性能测试 | 第103-104页 |
| ·退火温度对介电常数的影响 | 第104-107页 |
| ·高湿度环境的影响 | 第107-110页 |
| ·多孔SiO_2 薄膜的隔热性能研究 | 第110-120页 |
| ·3ω法测试热导率 | 第110-111页 |
| ·膜厚的影响 | 第111-114页 |
| ·孔隙率的影响 | 第114-119页 |
| ·退火温度的影响 | 第119-120页 |
| ·本章小结 | 第120-121页 |
| 第五章 结论 | 第121-124页 |
| ·全文工作总结 | 第121-122页 |
| ·本论文的主要创新点 | 第122-123页 |
| ·展望 | 第123-124页 |
| 致谢 | 第124-125页 |
| 参考文献 | 第125-139页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第139-141页 |
