| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·半导体激光器的发展 | 第7-9页 |
| ·半导体激光器的应用 | 第9-11页 |
| ·半导体激光器腔面镀膜的原因 | 第11-12页 |
| ·大功率半导体激光器镀腔面膜的设计要求 | 第12页 |
| ·本论文工作的目的及其研究的主要内容 | 第12-14页 |
| 第二章 半导体激光器理论基础 | 第14-20页 |
| ·半导体激光器的原理 | 第14-17页 |
| ·半导体激光器的结构 | 第17-18页 |
| ·激光器腔面膜设计基本考虑 | 第18-20页 |
| 第三章 氧化锌薄膜制备及其表征 | 第20-27页 |
| ·膜面薄膜材料的选择及其要求 | 第20页 |
| ·氧化锌的基本性质 | 第20-27页 |
| 第四章 ZnO薄膜的磁控溅射制备工艺和薄膜性质分析 | 第27-40页 |
| ·磁控溅射原理 | 第27-29页 |
| ·实验所需材料和设备 | 第29-30页 |
| ·衬底的选择与处理 | 第30-31页 |
| ·ZnO薄膜的制备流程 | 第31-32页 |
| ·不同溅射条件下ZnO薄膜的性质研究 | 第32-40页 |
| 第五章 ZnO薄膜在808nm激光器中的应用特性 | 第40-43页 |
| 第六章 总结及展望 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47页 |