摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第14-28页 |
1.1 课题背景 | 第14-15页 |
1.2 NO_x的生成机理 | 第15页 |
1.3 NO_x控制技术 | 第15-19页 |
1.3.1 NO_x源头控制技术 | 第15-16页 |
1.3.2 烟气脱硝技术 | 第16-18页 |
1.3.3 NH_3-SCR脱硝技术 | 第18-19页 |
1.4 SCR脱硝催化剂的研究 | 第19-25页 |
1.4.1 贵金属催化剂 | 第19-20页 |
1.4.2 钒系催化剂 | 第20-21页 |
1.4.3 分子筛催化剂 | 第21-23页 |
1.4.4 锰系催化剂 | 第23-24页 |
1.4.5 铈系催化剂 | 第24-25页 |
1.5 本课题研究意义和内容 | 第25-28页 |
1.5.1 本课题的研究意义 | 第25-26页 |
1.5.2 本课题的研究内容 | 第26-28页 |
第二章 实验内容和研究方法 | 第28-36页 |
2.1 实验所用药品和仪器 | 第28-29页 |
2.2 催化剂的制备 | 第29-30页 |
2.2.1 SbCe双金属氧化物催化剂的制备 | 第29页 |
2.2.2 NiCeTi催化剂的制备 | 第29-30页 |
2.3 催化剂的SCR催化性能评价 | 第30-32页 |
2.4 催化剂的表征方法 | 第32-36页 |
2.4.1 比表面积(BET)测试分析 | 第32页 |
2.4.2 X射线衍射(XRD)分析 | 第32-33页 |
2.4.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第33页 |
2.4.4 氢气程序性升温还原(H_2-TPR)法 | 第33页 |
2.4.5 氨气程序性升温脱附(NH_3-TPD) | 第33页 |
2.4.6 原位红外研究分析(In situ DRIFTS) | 第33-36页 |
第三章 SbCe催化剂上NH3-SCR脱硝性能的研究 | 第36-52页 |
3.1 引言 | 第36-37页 |
3.2 SbCe催化剂的性能评价 | 第37-39页 |
3.2.1 SbCe催化剂NH_3-SCR催化性能 | 第37-38页 |
3.2.2 SbCe催化剂的抗水抗硫性 | 第38-39页 |
3.3 SbCe催化剂的表征分析 | 第39-45页 |
3.3.1 BET比表面积和孔结构分析 | 第39-40页 |
3.3.2 Sb1Cex催化剂的XRD分析 | 第40-41页 |
3.3.3 Sb1Cex催化剂H_2-TPR分析 | 第41-42页 |
3.3.4 Sb1Cex催化剂NH_3-TPD的结果分析 | 第42页 |
3.3.5 Sb1Cex催化剂的XPS结果分析 | 第42-45页 |
3.4 SbCe催化剂DRIFTS分析 | 第45-50页 |
3.4.1 NH_3稳态吸附 | 第45-47页 |
3.4.2 NO+O_2稳态吸附 | 第47-49页 |
3.4.3 Sb1Ce4上先NO_x后NH_3瞬态DRIFTS研究 | 第49页 |
3.4.4 Sb1Ce4上先NH_3后NO_x瞬态DRIFTS研究 | 第49-50页 |
3.5 本章小结 | 第50-52页 |
第四章 NiCeTi催化剂上NH_3-SCR脱硝性能的研究 | 第52-66页 |
4.1 引言 | 第52页 |
4.2 Ni-Ce-Ti催化剂的性能评价 | 第52-56页 |
4.2.1 Ni-Ce-Ti催化剂的催化性能 | 第52-54页 |
4.2.2 NH_3-SCR脱硝反应表观活化能的分析 | 第54-55页 |
4.2.3 Ni-Ce-Ti催化剂的抗水抗硫性 | 第55-56页 |
4.3 Ni-Ce-Ti催化剂的表征分析 | 第56-61页 |
4.3.1 BET比表面积和孔结构分析 | 第56-57页 |
4.3.2 Ni-Ce-Ti催化剂的XRD分析 | 第57-58页 |
4.3.3 Ni-Ce-Ti催化剂的H_2-TPR分析 | 第58页 |
4.3.4 Ni-Ce-Ti催化剂的XPS分析 | 第58-61页 |
4.4 Ni-Ce-Ti催化剂DRIFTS分析 | 第61-64页 |
4.4.1 NH_3稳态吸附 | 第61-63页 |
4.4.2 NiCeTi上先NH_3后NO_x瞬态DRIFTS研究 | 第63-64页 |
4.5 本章小结 | 第64-66页 |
第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-76页 |
致谢 | 第76-78页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第78-80页 |
作者和导师 | 第80-82页 |
附件 | 第82-83页 |