| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| 1 引言 | 第11页 |
| ·ZnO 的性质 | 第11-15页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第11-13页 |
| ·ZnO 的压电性质 | 第13页 |
| ·ZnO 的气敏性质 | 第13页 |
| ·ZnO 的压敏性质 | 第13-14页 |
| ·ZnO 的光电性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜的制备技术 | 第15-19页 |
| ·溅射法 | 第15-17页 |
| ·分子束外延法 | 第17页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第17页 |
| ·金属有机化学气相沉积 | 第17-18页 |
| ·电子束蒸发 | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| ·ZnO 薄膜的本征缺陷和掺杂 | 第19-24页 |
| ·ZnO 薄膜中的本征缺陷 | 第19-21页 |
| ·ZnO 的n 型掺杂 | 第21页 |
| ·ZnO 的p 型掺杂 | 第21-24页 |
| ·ZnO 的带隙调整掺杂 | 第24页 |
| ·本文的立题依据、研究内容、创新点及光伏电池原理 | 第24-27页 |
| ·立题依据 | 第24-25页 |
| ·研究内容 | 第25-26页 |
| ·本文的创新点 | 第26页 |
| ·光伏电池原理 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备及表征方法 | 第28-39页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验设备及原理 | 第28-34页 |
| ·实验设备 | 第28-31页 |
| ·溅射原理 | 第31-32页 |
| ·薄膜的沉积过程 | 第32-34页 |
| ·ZnO 薄膜性能表征手段 | 第34-38页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第34-35页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第35-36页 |
| ·紫外-可见光谱(UV-vis spectrophotometer) | 第36-37页 |
| ·荧光光谱(PL) | 第37-38页 |
| ·光电响应性能测试系统 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 衬底温度对ZnO 薄膜结构及性能的影响 | 第39-51页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·衬底的清洗 | 第39页 |
| ·样品制备工艺参数 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-50页 |
| ·表面形貌 | 第40-41页 |
| ·XRD 分析 | 第41-43页 |
| ·光致发光光谱(PL)分析 | 第43-44页 |
| ·透射光谱 | 第44-45页 |
| ·光电响应 | 第45-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 氧化锌铝(AZO)薄膜的制备及表征 | 第51-60页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·溅射参数 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-59页 |
| ·表面形貌 | 第52-53页 |
| ·XRD 分析 | 第53-55页 |
| ·光致发光光谱(PL)分析 | 第55页 |
| ·透射光谱 | 第55-57页 |
| ·光电响应 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 N 掺杂氧化锌薄膜的制备及表征 | 第60-67页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·溅射参数 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-66页 |
| ·表面形貌 | 第61页 |
| ·XRD 分析 | 第61-63页 |
| ·光致发光光谱(PL)分析 | 第63-64页 |
| ·透射光谱 | 第64-65页 |
| ·光电响应 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 Al、N 共掺杂氧化锌薄膜的制备及表征 | 第67-75页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·溅射参数 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-74页 |
| ·表面形貌 | 第68-69页 |
| ·XRD 分析 | 第69-70页 |
| ·光致发光光谱(PL)分析 | 第70-71页 |
| ·透射光谱 | 第71-73页 |
| ·光电响应 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第七章 结论与展望 | 第75-78页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| ·展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 致谢 | 第86页 |