摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
目录 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-14页 |
§1.1 表面等离子体概述 | 第8-9页 |
§1.2 表面等离子体的激发 | 第9-11页 |
§1.3 表面等离子体的研究热点和应用 | 第11-13页 |
§1.4 课题意义及论文主要内容 | 第13-14页 |
第二章 时域有限差分方法的基本原理 | 第14-31页 |
§2.1 时域有限差分方法概述 | 第14-16页 |
§2.1.1 时域有限差分方法的历史回顾 | 第14-15页 |
§2.1.2 时域有限差分方法的基本点和计算区划分 | 第15-16页 |
§2.1.3 时域有限差分方法的优点 | 第16页 |
§2.2 麦克斯韦方程的FDTD形式 | 第16-22页 |
§2.2.1 三维直角坐标系中的FDTD方程 | 第16-19页 |
§2.2.2 二维直角坐标系中的FDTD方程 | 第19-22页 |
§2.3 FDTD中吸收边界条件 | 第22-26页 |
§2.3.1 单向行波方程 | 第22-24页 |
§2.3.2 完全匹配层(PML)吸收边界 | 第24-26页 |
§2.4 FDTD中的激励源技术 | 第26-31页 |
§2.4.1 FDTD中常用的激励源 | 第27页 |
§2.4.2 提取时谐场的幅值和相位 | 第27-28页 |
§2.4.3 总场边界条件 | 第28-31页 |
第三章 金属介质的光学参数 | 第31-35页 |
§3.1 波动方程与光学参数 | 第31-32页 |
§3.2 金属的复介电常数 | 第32页 |
§3.3 金属的杜德(Drude)模型 | 第32-33页 |
§3.4 金属介质的FDTD迭代方程 | 第33-35页 |
第四章 金属表面结构对光刻分辨率的影响 | 第35-45页 |
§4.1 表面等离子体干涉光刻基本方法 | 第35-36页 |
§4.2 对表面等离子体干涉光刻的FDTD数值模拟 | 第36-45页 |
第五章 结论和展望 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-49页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第49-50页 |
致谢 | 第50页 |