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金属表面结构对表面等离子体干涉光刻法分辨率的影响

摘要第1-5页
Abstract第5-6页
目录第6-8页
第一章 绪论第8-14页
 §1.1 表面等离子体概述第8-9页
 §1.2 表面等离子体的激发第9-11页
 §1.3 表面等离子体的研究热点和应用第11-13页
 §1.4 课题意义及论文主要内容第13-14页
第二章 时域有限差分方法的基本原理第14-31页
 §2.1 时域有限差分方法概述第14-16页
  §2.1.1 时域有限差分方法的历史回顾第14-15页
  §2.1.2 时域有限差分方法的基本点和计算区划分第15-16页
  §2.1.3 时域有限差分方法的优点第16页
 §2.2 麦克斯韦方程的FDTD形式第16-22页
  §2.2.1 三维直角坐标系中的FDTD方程第16-19页
  §2.2.2 二维直角坐标系中的FDTD方程第19-22页
 §2.3 FDTD中吸收边界条件第22-26页
  §2.3.1 单向行波方程第22-24页
  §2.3.2 完全匹配层(PML)吸收边界第24-26页
 §2.4 FDTD中的激励源技术第26-31页
  §2.4.1 FDTD中常用的激励源第27页
  §2.4.2 提取时谐场的幅值和相位第27-28页
  §2.4.3 总场边界条件第28-31页
第三章 金属介质的光学参数第31-35页
 §3.1 波动方程与光学参数第31-32页
 §3.2 金属的复介电常数第32页
 §3.3 金属的杜德(Drude)模型第32-33页
 §3.4 金属介质的FDTD迭代方程第33-35页
第四章 金属表面结构对光刻分辨率的影响第35-45页
 §4.1 表面等离子体干涉光刻基本方法第35-36页
 §4.2 对表面等离子体干涉光刻的FDTD数值模拟第36-45页
第五章 结论和展望第45-46页
参考文献第46-49页
攻读硕士学位期间发表的论文第49-50页
致谢第50页

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