有机高分子Langmuir-Blodgett(LB)膜的制备及其应用研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-35页 |
| ·概述 | 第9-11页 |
| ·光刻技术基本原理 | 第11-12页 |
| ·光刻机及光源 | 第12-14页 |
| ·光刻机的发展和分类 | 第12-13页 |
| ·光源的发展 | 第13-14页 |
| ·光刻胶及其当前进展 | 第14-21页 |
| ·光刻胶 | 第14页 |
| ·光刻胶的分类 | 第14-16页 |
| ·DUV正型光刻胶 | 第16-21页 |
| ·248 nm正型光刻胶 | 第17-19页 |
| ·193 nm正型光刻胶 | 第19-21页 |
| ·157 nm光刻胶 | 第21页 |
| ·光刻胶的成膜方式 | 第21-32页 |
| ·旋转涂膜 | 第21-22页 |
| ·自组装膜 | 第22-24页 |
| ·Langmuir-Blodgett(LB)膜 | 第24-32页 |
| ·可制备成LB膜的材料 | 第25-26页 |
| ·Langmuir膜的形成 | 第26-28页 |
| ·LB膜的沉积 | 第28-32页 |
| ·LB膜技术在光刻胶中的应用 | 第32-33页 |
| ·小结及课题的提出 | 第33-35页 |
| 第二章 实验部分 | 第35-40页 |
| ·仪器与试剂 | 第35页 |
| ·248 nm光刻胶的合成 | 第35-39页 |
| ·合成路线 | 第35-36页 |
| ·(甲基)丙烯酰氯的合成 | 第36-37页 |
| ·烷基丙烯酰胺合成的一般方法 | 第37-38页 |
| ·BPhMA(对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯)的合成 | 第38页 |
| ·BPhMA与(甲基)丙烯酰胺的共聚的一般方法 | 第38页 |
| ·BPhMA均聚 | 第38-39页 |
| ·基片的处理 | 第39页 |
| ·π-A曲线及LB膜的制备 | 第39-40页 |
| 第三章 结果和讨论 | 第40-60页 |
| ·共聚物2a(p(DDA-BPhMA)s) | 第40-41页 |
| ·共聚物2a的表征 | 第40页 |
| ·共聚物2a在气/液界面上的行为研究 | 第40-41页 |
| ·共聚物2b(p(DDMA-BPhMA)s) | 第41-43页 |
| ·共聚物2b的表征 | 第41-42页 |
| ·共聚物2b在气/液界面上的行为研究 | 第42-43页 |
| ·共聚物2c(p(HDMA-BPhMA)s) | 第43-51页 |
| ·共聚物2c的表征 | 第43页 |
| ·共聚物2c在气/液界面上的行为研究 | 第43-44页 |
| ·2c Langmuir膜的转移性能研究 | 第44-45页 |
| ·2c LB膜的光刻性能研究 | 第45-47页 |
| ·2c LB膜光分解机理研究 | 第47-48页 |
| ·2c LB膜的抗蚀性研究 | 第48-49页 |
| ·图形的形态学研究 | 第49-51页 |
| ·共聚物2d(p(HDA-BPhMA)s) | 第51-60页 |
| ·共聚物2d的表征 | 第51-52页 |
| ·共聚物2d在气/液界面上的行为研究 | 第52页 |
| ·2d Langmuir膜的转移性能研究 | 第52-53页 |
| ·2d(4)LB膜的光刻性能研究 | 第53-55页 |
| ·2d(4)LB膜光分解机理研究 | 第55-56页 |
| ·2d(4)LB膜的抗蚀性研究 | 第56-57页 |
| ·图形的形态学研究 | 第57-60页 |
| 第四章 结论部分 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-72页 |
| 附图 | 第72-78页 |
| 已发表及待发表论文(2004-2007) | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
