| 提要 | 第1-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-42页 |
| ·TiO_2 薄膜光催化技术概述 | 第10-20页 |
| ·TiO_2 薄膜的光催化原理 | 第11-13页 |
| ·影响TiO_2 薄膜光催化性能的因素 | 第13-16页 |
| ·TiO_2 薄膜作为光催化剂的应用 | 第16-18页 |
| ·制备TiO_2 薄膜光催化剂的常用方法 | 第18-20页 |
| ·微弧氧化技术制备TiO_2 膜的研究概述 | 第20-39页 |
| ·微弧氧化技术介绍 | 第20-37页 |
| ·微弧氧化的发展历程 | 第21-24页 |
| ·微弧氧化机理 | 第24-35页 |
| ·微弧氧化的特点 | 第35-37页 |
| ·微弧氧化技术制备TiO_2 膜的应用前景 | 第37-38页 |
| ·微弧氧化技术制备TiO_2 膜的研究现状 | 第38-39页 |
| ·论文的选题 | 第39-40页 |
| ·论文的主要内容 | 第40-42页 |
| 第二章 微弧氧化法制备TiO_2膜的实验条件 | 第42-59页 |
| ·微弧氧化制备系统介绍 | 第42-48页 |
| ·微弧氧化TiO_2 膜的制备工艺流程 | 第48-50页 |
| ·微弧氧化过程 | 第50-51页 |
| ·影响微弧氧化TiO_2 膜制备的因素 | 第51-54页 |
| ·微弧氧化TiO_2 膜的具体制备方式 | 第54-57页 |
| ·微弧氧化TiO_2 膜的表征方法 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第三章 电解液参数对微弧氧化TiO_2膜生长特性的影响 | 第59-75页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·实验条件 | 第60页 |
| ·电解液种类对临界电击穿电压的影响 | 第60-61页 |
| ·电解液种类对TiO_2 膜生长特性影响 | 第61-71页 |
| ·电解液种类对TiO_2 膜平均生长速率的影响 | 第62-64页 |
| ·电解液种类对TiO_2 膜相组成的影响 | 第64-67页 |
| ·电解液种类对TiO_2 膜表面形貌的影响 | 第67-71页 |
| ·电解液浓度对TiO_2 膜生长特性影响 | 第71-74页 |
| ·电解液浓度对TiO_2 膜平均生长速率的影响 | 第71-72页 |
| ·电解液浓度对TiO_2 膜相组成的影响 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第四章 电学参数对微弧氧化TiO_2膜生长特性的影响 | 第75-109页 |
| ·引言 | 第75页 |
| ·微弧氧化过程中电参数变化规律 | 第75-81页 |
| ·实验条件 | 第75页 |
| ·恒定电压下电流变化规律 | 第75-77页 |
| ·恒定电压下动态电阻及电阻率变化规律 | 第77-79页 |
| ·恒定电流下电压变化规律 | 第79-81页 |
| ·电流密度对TiO_2 膜生长特性影响 | 第81-89页 |
| ·实验条件 | 第81页 |
| ·电流密度对TiO_2 膜平均生长速率的影响 | 第81-83页 |
| ·电流密度对TiO_2 膜相组成的影响 | 第83-84页 |
| ·电流密度对TiO_2 膜表面形貌的影响 | 第84-87页 |
| ·放电通道特性 | 第87-89页 |
| ·电压对TiO_2 膜生长特性影响 | 第89-95页 |
| ·实验条件 | 第89-90页 |
| ·电压对TiO_2 膜平均生长速率的影响 | 第90-91页 |
| ·电压对TiO_2 膜相组成的影响 | 第91-93页 |
| ·电压对TiO_2 膜表面形貌的影响 | 第93-95页 |
| ·脉冲频率对TiO_2 膜生长特性影响 | 第95-102页 |
| ·实验条件 | 第96页 |
| ·脉冲频率对TiO_2 膜平均生长速率的影响 | 第96-98页 |
| ·脉冲频率对TiO_2 膜相组成的影响 | 第98-99页 |
| ·脉冲频率对TiO_2 膜表面形貌的影响 | 第99-102页 |
| ·占空比对TiO_2 膜生长特性影响 | 第102-107页 |
| ·实验条件 | 第102-103页 |
| ·占空比对TiO_2 膜平均生长速率的影响 | 第103-104页 |
| ·占空比对TiO_2 膜相组成的影响 | 第104-105页 |
| ·占空比对TiO_2 膜表面形貌的影响 | 第105-107页 |
| ·本章小结 | 第107-109页 |
| 第五章 微弧氧化TiO_2膜的光催化性能研究 | 第109-129页 |
| ·引言 | 第109页 |
| ·表面颗粒状TiO_2 膜的制备 | 第109-118页 |
| ·实验条件 | 第109-110页 |
| ·处理时间对TiO_2 膜平均生长速率的影响 | 第110-111页 |
| ·处理时间对TiO_2 膜相组成的影响 | 第111-113页 |
| ·处理时间对TiO_2 膜表面形貌的影响 | 第113-116页 |
| ·表面颗粒状结构 | 第116-118页 |
| ·表面纳米晶TiO_2 膜的制备 | 第118-124页 |
| ·实验条件 | 第118页 |
| ·处理时间对TiO_2 膜平均生长速率的影响 | 第118-119页 |
| ·处理时间对TiO_2 膜相组成的影响 | 第119-121页 |
| ·处理时间对TiO_2 膜表面形貌的影响 | 第121-124页 |
| ·微弧氧化TiO_2 膜的光催化性能 | 第124-128页 |
| ·本章小结 | 第128-129页 |
| 第六章 总结 | 第129-132页 |
| 参考文献 | 第132-142页 |
| 博士期间发表的论文 | 第142-144页 |
| 致谢 | 第144-146页 |
| 摘要 | 第146-149页 |
| Abstract | 第149-152页 |