| 中文摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-23页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·单壁碳纳米管的发现 | 第7-8页 |
| ·单壁碳纳米管的结构 | 第8-12页 |
| ·碳纳米管的基本结构 | 第8页 |
| ·碳纳米管结构的实验研究手段 | 第8-9页 |
| ·单壁碳纳米管的结构 | 第9-12页 |
| ·单壁纳米碳管的特性 | 第12-14页 |
| ·纳米尺度形成的细微结构 | 第12-13页 |
| ·纳米结构造就的特殊电学性质 | 第13页 |
| ·碳键构筑的超高力学性能 | 第13-14页 |
| ·单壁碳纳米管的合成 | 第14-17页 |
| ·电弧放电法 | 第14-15页 |
| ·激光蒸发法 | 第15-16页 |
| ·有机物气相催化热解法(CVD法) | 第16-17页 |
| ·单壁碳纳米管的生长机理 | 第17-19页 |
| ·开口生长模型和闭口生长模型 | 第17-18页 |
| ·单壁碳纳米管的生长机理 | 第18-19页 |
| ·单壁碳纳米管的纯化及化学修饰 | 第19-22页 |
| ·单壁碳纳米管的纯化 | 第19-22页 |
| ·碳纳米管的化学修饰 | 第22页 |
| ·本论文的课题来源及研究的主要内容 | 第22-23页 |
| 第2章 实验试剂及仪器 | 第23-25页 |
| ·实验试剂 | 第23页 |
| ·实验仪器 | 第23-25页 |
| 第3章 单壁碳纳米管的合成及结果分析 | 第25-37页 |
| ·单壁碳纳米管最佳合成条件的探索 | 第25-27页 |
| ·合成方法选择 | 第25-26页 |
| ·反应过程介绍 | 第26页 |
| ·单壁碳纳米管的定性表征手段 | 第26页 |
| ·单壁碳纳米管的定量表征手段 | 第26-27页 |
| ·单壁碳纳米管制备的实验内容 | 第27-29页 |
| ·实验步骤 | 第27页 |
| ·所得产品的测量和表征实验步骤 | 第27-28页 |
| ·第一组正交实验设计表 | 第28页 |
| ·第二组实验设计条件 | 第28页 |
| ·第三组实验设计条件 | 第28-29页 |
| ·单壁碳纳米管合成的实验结果处理 | 第29-34页 |
| ·单壁碳纳米管合成的产品形貌分析 | 第29页 |
| ·产品的可见-近红外谱图 | 第29-32页 |
| ·产品中单壁碳纳米管相对浓度的积分面积处理 | 第32-33页 |
| ·第一组正交实验所得到的产品的相对浓度 | 第33页 |
| ·第二组实验所得到的产品的相对浓度 | 第33-34页 |
| ·第三组实验所得到的产品的相对浓度 | 第34页 |
| ·结果分析 | 第34-36页 |
| ·实验基础分析 | 第34-35页 |
| ·三组实验结果分析 | 第35-36页 |
| ·结论 | 第36-37页 |
| 第4章 单壁碳纳米管纯化的实验内容及结果分析 | 第37-45页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·纯化的可见-近红外吸收光谱的表征 | 第37页 |
| ·用K_2S_2O_8氧化单壁碳纳米管粗品进行纯化 | 第37-38页 |
| ·实验步骤 | 第37-38页 |
| ·可见-近红外分析结果 | 第38页 |
| ·用HNO_3氧化单壁碳纳米管粗品进行纯化 | 第38-39页 |
| ·实验步骤 | 第38页 |
| ·可见-近红外分析结果 | 第38-39页 |
| ·不同离心速度对单壁碳纳米管纯化的影响 | 第39页 |
| ·样品来源 | 第39页 |
| ·离心速度设计 | 第39页 |
| ·纯化前后单壁碳纳米管的扫描电镜分析 | 第39-40页 |
| ·纯化前后单壁碳纳米管的Raman光谱分析 | 第40-43页 |
| ·拉曼光谱简介 | 第40-41页 |
| ·纯化前后单壁碳纳米管的Raman光谱分析 | 第41-43页 |
| ·实验结果及分析 | 第43-44页 |
| ·两种氧化方法的对比分析 | 第43-44页 |
| ·离心速度的影响分析 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 结论 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-53页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |