| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·国内外对介质氧化物超晶格薄膜研究的发展动态 | 第9-12页 |
| ·铁电超晶格薄膜的结构 | 第9-10页 |
| ·铁电超晶格材料及其性能 | 第10-12页 |
| ·BTO/STO超晶格 | 第10-11页 |
| ·Pb系铁电超晶格薄膜 | 第11页 |
| ·含 Bi的层状铁电材料组成的超晶格薄膜 | 第11-12页 |
| ·衬底和电极材料的选择 | 第12页 |
| ·介质氧化物超晶格薄膜的应用及前景 | 第12-15页 |
| ·本文的研究内容及意义 | 第15-16页 |
| 第二章 基本介质膜系 | 第16-22页 |
| ·周期结构 | 第16-19页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·HLHLHLH膜系概述 | 第17-19页 |
| ·周期膜系的应用 | 第19-22页 |
| ·干涉反光镜 | 第19页 |
| ·低通与高通滤光片 | 第19-22页 |
| 第三章 薄膜的制备方法及其分析测试技术 | 第22-28页 |
| ·薄膜的溅射沉积方法 | 第22-25页 |
| ·直流辉光放电 | 第22-23页 |
| ·射频辉光放电 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射镀膜仪 | 第24-25页 |
| ·薄膜的分析测试技术 | 第25-28页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第26页 |
| ·铁电综合测试系统 | 第26-28页 |
| 第四章 PZT铁电薄膜/LaNiO_3薄膜周期结构的制备 | 第28-32页 |
| ·基片清洗 | 第28-29页 |
| ·LNO薄膜的制备及热处理 | 第29-30页 |
| ·PZT铁电薄膜的制备 | 第30页 |
| ·[PZT/LNO]~3周期结构的制备 | 第30-31页 |
| ·Ag顶电极的制备 | 第31-32页 |
| 第五章 实验结果分析 | 第32-44页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第32-35页 |
| ·薄膜的结晶取向 | 第35-38页 |
| ·多层膜[PZT/LNO]~n/Si的铁电性能 | 第38-41页 |
| ·薄膜的厚度 | 第41-42页 |
| ·薄膜(堆)的反射光谱 | 第42-44页 |
| 第六章 结论 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第49页 |