摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第1章 前言 | 第11-26页 |
·金刚石薄膜的结构、性质及应用 | 第11-17页 |
·金刚石薄膜的结构 | 第11-12页 |
·金刚石薄膜的性质 | 第12-13页 |
·金刚石薄膜的应用 | 第13-17页 |
·器件热沉和封装材料 | 第13-14页 |
·工具领域 | 第14-15页 |
·光学领域 | 第15-16页 |
·电子应用领域 | 第16-17页 |
·CVD金刚石薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
·CVD金刚石薄膜硬质合金刀具研究背景 | 第20-22页 |
·本工作的研究目标、研究内容以及研究意义 | 第22-23页 |
·研究内容 | 第22-23页 |
·研究意义 | 第23页 |
·项目来源及工作量 | 第23-24页 |
·研究技术路线图 | 第24-26页 |
第2章 直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜生长的基本原理 | 第26-35页 |
·等离子体的基本知识 | 第26-27页 |
·等离子体的概念 | 第26页 |
·等离子体的产生方法 | 第26-27页 |
·直流弧光放电等离子体的形成原理 | 第27-28页 |
·气体放电 | 第27-28页 |
·Ar+H_2+CH_4体系中的弧光放电 | 第28页 |
·直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜的沉积原理 | 第28-33页 |
·直流弧光放电等离子体CVD装置 | 第28-30页 |
·低压化学气相沉积金刚石薄膜的生长机理 | 第30-33页 |
·低压化学气相沉积金刚石薄膜的条件 | 第31页 |
·金刚石形核 | 第31-32页 |
·亚稳态生长 | 第32-33页 |
·金刚石薄膜硬质合金刀具性能的表征方法 | 第33-35页 |
第3章 基于YG6硬质合金基体的气体工艺参数与低压气相金刚石薄膜的关系 | 第35-54页 |
·引言 | 第35-36页 |
·实验 | 第36-37页 |
·金刚石薄膜的合成条件 | 第36页 |
·试验方案 | 第36-37页 |
·试验结果 | 第37-49页 |
·[CH_4]/[H_2]比率对金刚石薄膜的影响 | 第37-45页 |
·[CH_4]/[H_2]比率下直流弧光放电等离子体的特征 | 第37-38页 |
·不同甲烷浓度下制备的金刚石薄膜的显微结构分析 | 第38-42页 |
·不同甲烷浓度下制备的金刚石颗粒的晶体形态分析 | 第42-43页 |
·不同甲烷浓度下制备的金刚石薄膜试样的压痕观察分析 | 第43-45页 |
·Ar流量对金刚石薄膜的影响 | 第45-49页 |
·不同Ar流量下直流弧光放电等离子体的特征 | 第46-48页 |
·不同Ar流量下制备的金刚石薄膜的显微结构分析 | 第48-49页 |
·讨论 | 第49-52页 |
·CVD金刚石薄膜的表面形貌 | 第49页 |
·气体工艺参数对金刚石晶粒的影响 | 第49-51页 |
·气体工艺参数对金刚石薄膜的影响 | 第51-52页 |
·本章小节 | 第52-54页 |
第4章 基于YG6硬质合金基体的物理工艺参数与低压气相金刚石薄膜的关系 | 第54-66页 |
·引言 | 第54-58页 |
·CVD装置测温技术现状 | 第54-57页 |
·双热电偶测量技术 | 第54-55页 |
·单热电偶测温技术 | 第55-56页 |
·双热电偶校温技术 | 第56-57页 |
·基片温度对CVD金刚石薄膜沉积的影响: | 第57页 |
·沉积压力对金刚石薄膜沉积的影响: | 第57-58页 |
·实验 | 第58-59页 |
·金刚石薄膜的合成条件 | 第58页 |
·实验方案: | 第58-59页 |
·实验结果 | 第59-63页 |
·不同沉积压力对金刚石薄膜的影响 | 第59-61页 |
·不同沉积压力下制备的金刚石薄膜的显微结构 | 第59-60页 |
·不同沉积压力下制备的金刚石薄膜刀具的膜基性能分析 | 第60-61页 |
·不同基体冷却水流量对金刚石薄膜的影响 | 第61-63页 |
·不同基体冷却水流量下制备的金刚石薄膜的显微结构 | 第61-63页 |
·讨论 | 第63-65页 |
·沉积温度的影响 | 第63-64页 |
·沉积压力的影响 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第5章 基于精磨YG6硬质合金基体的电化学两步预处理工艺研究 | 第66-76页 |
·引言 | 第66-67页 |
·实验 | 第67页 |
·实验结果与讨论 | 第67-75页 |
·经不同电化学处理后精磨YG6硬质合金基体的表面组织与物相分析 | 第67-70页 |
·电化学两步法腐蚀工艺对精磨YG6硬质合金基体的影响 | 第70-73页 |
·电化学预处理工艺对精磨YG6金刚石涂层刀具性能的影响 | 第73-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
结论 | 第76-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-86页 |