| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| ·微弧氧化介绍 | 第13页 |
| ·微弧氧化发展及现状 | 第13-15页 |
| ·微弧氧化机理 | 第15-24页 |
| ·微弧氧化的理化过程 | 第15-19页 |
| ·微弧氧化的电击穿机理 | 第19-24页 |
| ·微弧氧化技术的特点及其应用领域 | 第24-26页 |
| ·钛及其合金微弧氧化的研究现状 | 第26-27页 |
| ·论文题目的选择及主要内容 | 第27-29页 |
| 第二章 微弧氧化设备及实验方法 | 第29-36页 |
| ·微弧氧化膜制备系统简介 | 第29-30页 |
| ·微弧氧化的工艺流程 | 第30页 |
| ·微弧氧化膜的表征手段 | 第30-31页 |
| ·微弧氧化过程 | 第31-32页 |
| ·影响氧化膜制备的因素 | 第32-34页 |
| ·微弧氧化材料的选择 | 第34-36页 |
| 第三章 处理时间和电压对钛微弧氧化膜生长特性的影响 | 第36-50页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·样品的制备与表征方法 | 第36-37页 |
| ·处理时间对微弧氧化膜生长特性的影响 | 第37-44页 |
| ·处理时间对氧化膜厚度的影响 | 第37-38页 |
| ·处理时间对氧化膜相组成的影响 | 第38-40页 |
| ·处理时间对氧化膜表面形貌的影响 | 第40-44页 |
| ·电压对微弧氧化膜生长特性的影响 | 第44-48页 |
| ·电压对氧化膜膜厚度的影响 | 第44-45页 |
| ·电压对氧化膜相组成的影响 | 第45-46页 |
| ·电压对氧化膜表面形貌的影响 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 脉冲频率和占空比对钛微弧氧化膜生长特性的影响 | 第50-62页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·样品的制备与表征方法 | 第50-51页 |
| ·脉冲频率对微弧氧化膜生长特性的影响 | 第51-56页 |
| ·频率对氧化膜厚度的影响 | 第51-52页 |
| ·频率对氧化膜相组成的影响 | 第52-54页 |
| ·频率对氧化膜表面形貌的影响 | 第54-56页 |
| ·占空比对微弧氧化膜生长特性的影响 | 第56-60页 |
| ·占空比对氧化膜厚度的影响 | 第56-57页 |
| ·占空比对氧化膜相组成的影响 | 第57-58页 |
| ·占空比对氧化膜表面形貌的影响 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 表面颗粒状钛微弧氧化膜生长特性的研究 | 第62-69页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·样品的制备与表征方法 | 第62页 |
| ·处理时间对表面颗粒状微弧氧化膜生长特性的影响 | 第62-67页 |
| ·处理时间对氧化膜厚度的影响 | 第62-63页 |
| ·处理时间对氧化膜相组成的影响 | 第63-65页 |
| ·处理时间对氧化膜表面形貌的影响 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 附录(攻读硕士学位期间发表论文目录) | 第77-78页 |