| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 1 引言 | 第11-30页 |
| ·背景 | 第11-12页 |
| ·纳滤膜分离 | 第12-14页 |
| ·离子交换膜电渗析 | 第14-24页 |
| ·电渗析基本原理 | 第14-18页 |
| ·离子交换膜的选择性 | 第18-19页 |
| ·离子交换膜的应用 | 第19-20页 |
| ·对带同符号电荷的离子具有选择透过性的离子交换膜及其分离机理 | 第20-22页 |
| ·电渗析过程的推动力和质量传递模型 | 第22-24页 |
| ·工作目的和工作范围 | 第24-26页 |
| ·结论 | 第26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 2 纳滤膜用于提取溶液中氯化锂的初步研究 | 第30-43页 |
| ·前言 | 第30页 |
| ·实验 | 第30-32页 |
| ·实验装置 | 第30-31页 |
| ·料液的准备 | 第31-32页 |
| ·操作条件 | 第32页 |
| ·分析方法 | 第32页 |
| ·结果和讨论 | 第32-40页 |
| ·截留性能和分离机理 | 第33-34页 |
| ·原料液特性的影响 | 第34-38页 |
| ·过程性能和经济性评价 | 第38-40页 |
| ·结论 | 第40-41页 |
| 符号列表 | 第41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 3 离子交换膜电渗析对反离子之间的分离机理研究 | 第43-86页 |
| ·前言 | 第43-45页 |
| ·原料和方法 | 第45页 |
| ·原料液 | 第45页 |
| ·实验装置 | 第45页 |
| ·仪器和分析方法 | 第45页 |
| ·离子交换膜对特定离子之间的选择性指标 | 第45-47页 |
| ·离子交换平衡决定的选择性 | 第47-52页 |
| ·部分去水化理论模型 | 第47-49页 |
| ·离子交换膜和溶液的离子交换等温线 | 第49-52页 |
| ·基于唐南平衡的溶解-扩散分离模型 | 第52-53页 |
| ·溶液-膜界面离子迁移动力学 | 第53-58页 |
| ·基于不可逆过程的离子通量动力学方程 | 第53页 |
| ·由Nernst模型计算贫化层的浓度和电位分布以及表观速率常数 | 第53-58页 |
| ·反离子之间分离因子的构成因素 | 第58-65页 |
| ·溶液—膜界面的极化 | 第59-61页 |
| ·膜面改性层造成的能垒 | 第61-63页 |
| ·膜内各物种之间的交互作用 | 第63-65页 |
| ·各因素对分离因子的影响 | 第65-75页 |
| ·膜的表面改性的影响 | 第65-66页 |
| ·操作电流的影响 | 第66-67页 |
| ·溶液组成的影响 | 第67-69页 |
| ·溶液浓度的影响 | 第69-74页 |
| ·水力学条件的影响 | 第74-75页 |
| ·简化模型及其对实验的模拟 | 第75-80页 |
| ·基于动力学的溶解—扩散模型 | 第75-76页 |
| ·准动力学模型 | 第76-80页 |
| ·结论 | 第80-81页 |
| 符号列表 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-86页 |
| 4 卤水溶液中离子在离子交换膜中的迁移行为和电渗析工程化 | 第86-115页 |
| ·前言 | 第86页 |
| ·原料和方法 | 第86-87页 |
| ·多元溶液体系的各种离子在膜中迁移过程中的竞争、耦合作用 | 第87-91页 |
| ·反离子之间的竞争机理和复杂的浓度、组成相关性 | 第87-90页 |
| ·同名离子和反离子之间的迁移耦合 | 第90-91页 |
| ·硼酸根在阴离子交换膜中的特殊迁移行为 | 第91-105页 |
| ·硼通量的浓度相关性 | 第91-92页 |
| ·硼的存在对系统电阻的影响 | 第92-94页 |
| ·硼在卤水中的存在形式和进入膜的方式 | 第94-100页 |
| ·硼在阴膜中的存在形式及其电导—硼对阴膜的污染机理 | 第100-104页 |
| ·硼对离子交换膜污染的防止 | 第104-105页 |
| ·电渗析运行过程中的局部水分解和结垢的防止 | 第105-108页 |
| ·电渗析的操作方式和放大模拟 | 第108-113页 |
| ·结论 | 第113页 |
| 符号列表 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-115页 |
| 5 结语 | 第115-118页 |
| 附录 | 第118-147页 |
| A.1 卤水中硼存在形式的计算程序 | 第118-124页 |
| A.2 阴膜中硼存在形式及其电导率 | 第124-125页 |
| A.3 多段连续电渗析关键组分通量计算程序 | 第125-126页 |
| A.4 电渗析处理卤水溶液时的MAXWELL-STEFAN数学模型描述 | 第126-144页 |
| A.4.1 前言 | 第126-127页 |
| A.4.2 M-S模型基本公式 | 第127-134页 |
| A.4.3 电解质溶液和离子交换膜中的Pitzer模型 | 第134-142页 |
| A.4.4 卤水溶液电渗析传质的M-S模型参数的估计 | 第142-143页 |
| A.4.5 结论 | 第143-144页 |
| 符号列表 | 第144-145页 |
| 参考文献 | 第145-147页 |
| 文章、专利发表情况 | 第147-148页 |
| 致谢 | 第148页 |
