| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1—1 透明导电薄膜制备的意义 | 第10-12页 |
| 1—2 ZnO：Al(AZO)薄膜的研究现状 | 第12-15页 |
| 1—3 PLD法制备ZnO：Al(AZO)薄膜 | 第15-19页 |
| 1—3—1 PLD的制膜工艺 | 第15-16页 |
| 1—3—2 PLD的技术优势 | 第16-17页 |
| 1—3—3 PLD过程中各工艺参数对薄膜质量的影响 | 第17-19页 |
| 第二章 ZnO：Al(AZO)薄膜的制备过程与性能测试 | 第19-22页 |
| 2—1 引言 | 第19页 |
| 2—2 实验设备 | 第19-20页 |
| 2—3 试验过程 | 第20-21页 |
| 2—3—1 ZnO：Al(AZO)陶瓷靶的制备 | 第20页 |
| 2—3—2 衬底处理 | 第20页 |
| 2—3—3 薄膜沉积工艺过程 | 第20页 |
| 2—3—4 试验参数 | 第20-21页 |
| 2—4 材料性能测试 | 第21-22页 |
| 第三章 沉积条件对ZnO：Al(AZO)薄膜组织结构和电光学性能研究 | 第22-44页 |
| 3—1 引言 | 第22页 |
| 3—2 AZO的薄膜组织结构 | 第22-32页 |
| 3—2—1 沉积条件对AZO薄膜的择优取向性的影响 | 第22-26页 |
| 3—2—2 沉积条件对AZO薄膜的表面形貌的影响 | 第26-32页 |
| 3—3 AZO薄膜的电学性能 | 第32-39页 |
| 3—3—1 AZO薄膜的导电机制 | 第32-34页 |
| 3—3—2 AZO薄膜的电学性能影响因素 | 第34-35页 |
| 3—3—3 沉积条件对AZO薄膜电学性能的影响 | 第35-39页 |
| 3—4 沉积条件对AZO薄膜的光学性能的影响 | 第39-44页 |
| 第四章 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-51页 |
| 攻读硕士学位期间完成的学术论文 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
