| 表目录 | 第1-9页 |
| 图目录 | 第9-11页 |
| 摘要 | 第11-12页 |
| ABSTRACT | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-26页 |
| ·前言 | 第13页 |
| ·铼的应用现状 | 第13-15页 |
| ·铼在国防、航空航天方面的应用 | 第13-14页 |
| ·铼在石油化学工业方面的应用 | 第14-15页 |
| ·铼在电子材料和超高温发射极方面的应用 | 第15页 |
| ·铼在医学和电视方面的应用 | 第15页 |
| ·铼构件的制备加工技术 | 第15-18页 |
| ·铼构件的电化学沉积制备加工 | 第15-16页 |
| ·铼构件的粉末冶金法制备加工 | 第16-17页 |
| ·电子束-物理气相沉积法(EB-PVD)制备加工铼构件 | 第17页 |
| ·化学气相沉积法(CVD)制备加工铼构件 | 第17-18页 |
| ·铼构件主要制备加工技术比较 | 第18页 |
| ·化学气相沉积法(CVD)简介 | 第18-23页 |
| ·化学气相沉积法及其特点 | 第18-19页 |
| ·化学气相沉积(CVD)反应的类型 | 第19-21页 |
| ·化学气相沉积(CVD)装置 | 第21-22页 |
| ·化学气相沉积(CVD)的主要工艺参数 | 第22-23页 |
| ·化学气相沉积法(CVD)制备铼的现状 | 第23-24页 |
| ·CVD法制备铼的反应过程 | 第23-24页 |
| ·CVD法制备铼的装置 | 第24页 |
| ·研究的背景、内容、目的以及课题来源 | 第24-26页 |
| ·背景及意义 | 第24-25页 |
| ·内容和目的 | 第25页 |
| ·课题来源 | 第25-26页 |
| 第二章 实验部分 | 第26-36页 |
| ·仪器和原料 | 第26-27页 |
| ·试验仪器设备 | 第26页 |
| ·实验用原料 | 第26-27页 |
| ·金属铼 CVD沉积工艺研究 | 第27-29页 |
| ·沉积工艺研究试验流程图 | 第27页 |
| ·实验装置及工艺参数选定 | 第27-29页 |
| ·铼的氯化实验 | 第29-30页 |
| ·实验目的及设备 | 第29页 |
| ·实验步骤 | 第29页 |
| ·实验结果 | 第29-30页 |
| ·铼沉积的动力学实验 | 第30-32页 |
| ·实验的目的以及意义 | 第30页 |
| ·实验装置和步骤 | 第30-32页 |
| ·厚度测量可靠性分析 | 第32-33页 |
| ·膜层厚度的定义 | 第32页 |
| ·膜厚度的一般测量方法 | 第32页 |
| ·本试验中膜层厚度的测量及其精度分析 | 第32-33页 |
| ·CVD铼的性能测试和表征 | 第33-36页 |
| ·CVD铼密度的测定 | 第33页 |
| ·CVD铼组织结构的表征 | 第33-34页 |
| ·CVD铼的成分以及物相分析 | 第34页 |
| ·CVD铼的显微硬度测试 | 第34-35页 |
| ·CVD铼的微/纳米压痕实验 | 第35页 |
| ·CVD铼氧化动力学研究 | 第35-36页 |
| 第三章 铼的沉积过程研究 | 第36-46页 |
| ·CVD铼过程中的理论计算 | 第36-41页 |
| ·标准吉布斯自由能△G_T~(?)的计算 | 第36-39页 |
| ·标准反应热△H_T~(?)的计算 | 第39-40页 |
| ·反应平衡常数K_p的计算 | 第40-41页 |
| ·氯化试验分析 | 第41-42页 |
| ·氯气流量对氯化影响分析 | 第41-42页 |
| ·温度对氯化影响 | 第42页 |
| ·CVD沉积过程动力学分析 | 第42-45页 |
| ·沉积动力学分析 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 CVD铼的表征和测试 | 第46-69页 |
| ·CVD铼的表面形貌分析 | 第46-53页 |
| ·表面形貌分析 | 第46-53页 |
| ·CVD铼的相成分分析 | 第53页 |
| ·样品制备 | 第53页 |
| ·结果分析 | 第53页 |
| ·CVD铼的显微硬度测试 | 第53-54页 |
| ·样品制备 | 第54页 |
| ·结果分析 | 第54页 |
| ·CVD铼微/纳米硬度测试与分析 | 第54-61页 |
| ·微/纳米压痕测试理论基础 | 第54-56页 |
| ·样品制备 | 第56-57页 |
| ·微/纳米压痕测试参数及过程 | 第57-58页 |
| ·结果分析 | 第58-61页 |
| ·不同基体上沉积 Re实验 | 第61-64页 |
| ·Ir/Re复合材料初步研究 | 第61页 |
| ·石墨基体上沉积 Re研究 | 第61-62页 |
| ·C_f/SiC基体上沉积 Re研究 | 第62-64页 |
| ·CVD铼的氧化行为研究 | 第64-67页 |
| ·实验方法 | 第65页 |
| ·结果分析 | 第65-67页 |
| ·CVD铼的密度 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士期间论文发表情况 | 第74页 |