目录 | 第1-7页 |
中文摘要 | 第7-10页 |
ABSTRACT | 第10-14页 |
第一章 绪论 | 第14-24页 |
§1—1 (D)KDP晶体研究现状 | 第14-18页 |
·晶体的结构和同位素效应 | 第15页 |
·晶体生长方法的研究 | 第15-16页 |
·晶体光学质量的研究 | 第16-18页 |
§1—2 钙钛矿铁电材料和Bi_4Ti_3O_(12) | 第18-21页 |
·铁电薄膜和BTO铁电薄膜 | 第19-20页 |
·铁电陶瓷及BTO铁电陶瓷 | 第20-21页 |
§1—3 本论文其它部分的主要内容 | 第21页 |
参考文献 | 第21-24页 |
第二章 (D)KDP晶体的循环法生长和品质鉴定 | 第24-42页 |
§2—1 引言 | 第24页 |
§2—2 育晶装置和晶体生长实验 | 第24-27页 |
·育晶器的设计 | 第24-26页 |
·晶体生长 | 第26-27页 |
§2—3 循环体系技术指标的确定 | 第27-28页 |
·流量对体系传质和传热的影响 | 第27页 |
·生长区温场和浓度场的均匀性考察 | 第27-28页 |
·晶体转速的确定 | 第28页 |
§2—4 晶体的品质鉴定 | 第28-40页 |
·XRD分析 | 第28-31页 |
·品体的UV/VIS/NIR透过率光谱 | 第31-32页 |
·杂质金属离子的检测 | 第32-34页 |
·半波电压的测定 | 第34-35页 |
·激光损伤阈值的测定 | 第35页 |
·DKDP晶体中氘含量的测定 | 第35-37页 |
·晶体热扩散系数的测量 | 第37-40页 |
§2—5 本章小结 | 第40-41页 |
参考文献 | 第41-42页 |
第三章 (D)KDP晶体的晶格振动光谱研究 | 第42-59页 |
§3—1 引言 | 第42页 |
§3—2 晶体基本结构数据和空间群分析 | 第42-46页 |
·晶体的结构 | 第42-43页 |
·空间群分析 | 第43-45页 |
·PO_4四面体的内振动模 | 第45-46页 |
§3—3 晶体的Raman光谱测试 | 第46-54页 |
·样品制备、散射效率计算和实验配置 | 第46-48页 |
·Raman散射测量结果及讨论 | 第48-54页 |
§3—4 晶体的红外吸收谱 | 第54-57页 |
·测试装置和方法 | 第54页 |
·结果与讨论 | 第54-57页 |
§3—5 本章小结 | 第57页 |
参考文献 | 第57-59页 |
第四章 (D)KDP晶体的结构的第一性原理计算和缺陷形成机制的研究 | 第59-78页 |
§4-1 引言 | 第59-60页 |
§4-2 晶体结构参数和电子能带结构的密度泛函计算 | 第60-69页 |
·密度泛函理论 | 第60-62页 |
·晶体结构参数的计算 | 第62-63页 |
·晶体电子结构的第一性原理研究 | 第63-69页 |
§4-3 晶体的缺陷 | 第69-75页 |
·实验 | 第71-72页 |
·实验结果与讨论 | 第72-75页 |
§4-4 本章小结 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-78页 |
第五章 钛酸铋系列超细粉体的制备和性能研究 | 第78-92页 |
§5—1 引言 | 第78页 |
§5—2 Bi_4Ti_3O_(12)纳米粉体的制备和介电性能 | 第78-84页 |
·BTO粉体的制备 | 第78-79页 |
·前驱体溶液的配制 | 第79页 |
·前驱体的合成 | 第79页 |
·实验结果与讨论 | 第79-84页 |
§5—3 La_XBi_(4-X)Ti_3O_(12)陶瓷的介电性能研究 | 第84-90页 |
·La_XBi_(4-X)Ti_3O_(12)陶瓷的制备 | 第84-85页 |
·BLT_x陶瓷的XRD分析 | 第85页 |
·BLT_x陶瓷的介电常数、介电损耗和温度的关系 | 第85-87页 |
·掺杂浓度对介电常数和介电损耗的影响 | 第87-88页 |
·掺杂浓度对介电常数和介电损耗的影响 | 第88-89页 |
·Raman光谱分析 | 第89-90页 |
§5—4 本章小结 | 第90-91页 |
参考文献 | 第91-92页 |
第六章 掺钐Bi_4Ti_3O_(12)系列薄膜的制备和性能研究 | 第92-111页 |
§6—1 引言 | 第92-93页 |
§6—2 Bi_(3.15)Sm_(0.85)Ti_3O_(12)(BSmT_(0.85))薄膜的制备 | 第93-104页 |
·主要仪器设备 | 第93页 |
·实验原料及衬底处理 | 第93-94页 |
·BSmT_(0.85)薄膜的制备 | 第94-95页 |
·薄膜的品质鉴定 | 第95-104页 |
§6—3 Bi_(4-X)Sm_XTi_3O_(12)(BSmT_x)系列薄膜的制备 | 第104-109页 |
·材料准备 | 第104-105页 |
·薄膜的XRD分析 | 第105-106页 |
·薄膜的I-V特性分析 | 第106-107页 |
·BSmT_x薄膜的C-V曲线 | 第107-108页 |
·BSmT_x薄膜的Raman光谱 | 第108-109页 |
§6—4 本章小结 | 第109-110页 |
参考文献 | 第110-111页 |
第七章 BTO的晶格振动光谱和钛酸铋系超细粉和薄膜的反应机理研究 | 第111-131页 |
§7—1 引言 | 第111页 |
§7—2 粉体和薄膜材料的制备 | 第111-112页 |
·BTO粉体的获得 | 第111页 |
·掺镧系列材料的制备 | 第111-112页 |
§7—3 BTO晶体基本结构数据和空间群分析 | 第112-116页 |
·晶体的结构 | 第112页 |
·晶体的商群分析 | 第112-115页 |
·TiO_6八面体的内振动模 | 第115-116页 |
§7—4 BTO纳米晶的Raman谱测量 | 第116-119页 |
·测量装置 | 第116页 |
·结果与讨论 | 第116-119页 |
§7—5 BTO纳米晶的红外光谱测试 | 第119-120页 |
·测试装置和方法 | 第119页 |
·结果与讨论 | 第119-120页 |
§7-6 钛酸铋系超细粉和薄膜的反应机理研究 | 第120-128页 |
·分析手段 | 第120页 |
·XRD分析 | 第120-122页 |
·TG/DTA分析 | 第122页 |
·红外分析 | 第122-125页 |
·拉曼分析 | 第125-127页 |
·反应机理分析 | 第127-128页 |
§7-7 本章小结 | 第128-129页 |
参考文献 | 第129-131页 |
第八章 总结 | 第131-136页 |
§8—1 主要结论 | 第131-134页 |
§8—2 主要创新点 | 第134-135页 |
§8—3 有待深入研究的问题 | 第135-136页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文目录 | 第136-138页 |
攻读博士学位期间所获奖励及参与课题 | 第138-139页 |
致谢 | 第139-140页 |