有机硅单体的合成
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 序 | 第8-11页 |
| 1 引言 | 第11-25页 |
| ·有机硅工业现状 | 第11-12页 |
| ·有机硅化合物性质及特点 | 第12-14页 |
| ·结构特点 | 第12-13页 |
| ·性能特点 | 第13-14页 |
| ·重要的有机硅化合物 | 第14-22页 |
| ·有机卤硅烷 | 第14-21页 |
| ·有机聚硅氧烷 | 第21-22页 |
| ·其他有机硅化合物 | 第22页 |
| ·我国有机硅工业展望 | 第22-23页 |
| ·本研究的主要内容 | 第23-25页 |
| 2 实验部分 | 第25-31页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第25-26页 |
| ·实验试剂 | 第25页 |
| ·实验仪器 | 第25-26页 |
| ·合成路线 | 第26-27页 |
| ·中间体及目标化合物的合成 | 第27-31页 |
| ·溶剂处理 | 第27页 |
| ·二(二乙胺基)二甲基硅烷的合成 | 第27页 |
| ·二(二乙胺基)一甲基一氢硅烷的合成 | 第27-28页 |
| ·二胺基二甲基一氯硅烷的合成 | 第28页 |
| ·二乙胺基二甲基一氢硅烷的合成 | 第28-29页 |
| ·二甲基氯硅烷的合成 | 第29-31页 |
| 3 结果与讨论 | 第31-52页 |
| ·原料性质及检测 | 第31-34页 |
| ·二甲基二氯硅烷 | 第31-33页 |
| ·甲基二氯硅烷 | 第33-34页 |
| ·二(二乙胺基)二甲基硅烷的检测分析 | 第34-37页 |
| ·结构 | 第34-35页 |
| ·机理分析 | 第35页 |
| ·红外光谱表征 | 第35-36页 |
| ·GC-MS表征 | 第36-37页 |
| ·(二乙胺基)一甲基一氢硅烷的检测分析 | 第37-40页 |
| ·结构 | 第37页 |
| ·机理分析 | 第37-38页 |
| ·红外光谱表征 | 第38-39页 |
| ·GC-MS表征 | 第39-40页 |
| ·二乙胺基二甲基一氯硅烷的检测分析 | 第40-44页 |
| ·结构 | 第40页 |
| ·机理分析 | 第40-42页 |
| ·红外光谱表征 | 第42页 |
| ·GC-MS表征 | 第42-44页 |
| ·二乙胺基二甲基一氢硅烷的检测分析 | 第44-46页 |
| ·结构 | 第44页 |
| ·机理分析 | 第44-45页 |
| ·红外光谱表征 | 第45页 |
| ·GC-MS表征 | 第45-46页 |
| ·二甲基氯硅烷的检测分析 | 第46-52页 |
| ·结构 | 第46页 |
| ·路线一 | 第46-48页 |
| ·路线二 | 第48-50页 |
| ·红外光谱表征 | 第50-52页 |
| 4 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 作者简历 | 第58-60页 |
| 学位论文数据集 | 第60页 |
