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蓝宝石衬底与GaN外延层中缺陷与杂质的研究

第一章 绪论第1-16页
   ·引言第7页
   ·晶体结构与材料特征第7-9页
   ·器件水平及应用第9-11页
   ·GaN半导体材料的前景及市场潜力第11-12页
   ·第三代半导体材料的制备第12-14页
   ·国内外蓝宝石单晶研究现状及分析第14-16页
第二章 蓝宝石单晶的性质及制备第16-29页
   ·前言第16页
   ·蓝宝石的成分和一般性能第16-17页
   ·蓝宝石的制备第17-29页
  2-3-1 提拉法生长蓝宝石第17-24页
  2-3-2 焰熔法生长蓝宝石第24-25页
  2-3-3 热交换法生长蓝宝石第25-26页
  2-3-4 导向温梯法生长蓝宝石第26-27页
  2-3-5 其它生长蓝宝石的方法第27-29页
第三章 蓝宝石单晶中缺陷的研究第29-37页
   ·前言第29页
   ·实验第29-34页
  3-2-1 实验样品第29页
  3-2-2 用KOH进行化学腐蚀第29-32页
  3-2-3 用NaOH进行化学腐蚀第32-33页
  3-2-4 对不同晶向的蓝宝石单晶进行化学腐蚀第33页
  3-2-5 比较不同样片的缺陷第33-34页
   ·结果与讨论第34-36页
   ·小结第36-37页
第四章 GaN外延层中缺陷的研究第37-42页
   ·前言第37页
   ·实验第37-38页
   ·结果与讨论第38-40页
   ·小结第40-42页
第五章 蓝宝石和GaN外延层中杂质的研究第42-50页
   ·前言第42页
   ·实验第42-44页
  5-2-1 实验样品第42-43页
  5-2-2 实验步骤第43-44页
   ·结果与讨论第44-49页
   ·小结第49-50页
第六章 结论第50-51页
参考文献第51-54页
致谢第54-55页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第55页

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