掺铝掺硅氧化锌薄膜的制备工艺及其性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-27页 |
| ·功能薄膜材料及其发展 | 第9-10页 |
| ·透明导电薄膜 | 第10-11页 |
| ·透明导电氧化物薄膜 | 第11-14页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的发展 | 第11-12页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的性能 | 第12-13页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的制备和应用 | 第13-14页 |
| ·氧化锌铝（ZAO）薄膜 | 第14-24页 |
| ·ZnO薄膜的性能 | 第14页 |
| ·ZAO薄膜的电学性能 | 第14-16页 |
| ·ZAO薄膜的光学性能 | 第16-17页 |
| ·ZAO薄膜的结构特性 | 第17-18页 |
| ·ZAO薄膜的制备方法 | 第18-22页 |
| ·ZAO薄膜的应用前景 | 第22-24页 |
| ·问题的提出 | 第24-25页 |
| ·主要研究内容和技术路线 | 第25-27页 |
| ·主要研究内容 | 第25页 |
| ·技术路线 | 第25-27页 |
| 第二章 实验方法与仪器设备 | 第27-32页 |
| ·薄膜制备方法和设备 | 第27-28页 |
| ·基体准备 | 第28页 |
| ·靶材制备设备 | 第28-29页 |
| ·实验靶材 | 第29-30页 |
| ·薄膜性能检测方法及仪器 | 第30-32页 |
| 第三章 ZAO薄膜的性能和制备 | 第32-62页 |
| ·ZAO薄膜机理概述 | 第32-40页 |
| ·ZAO薄膜电学性能机理 | 第32-33页 |
| ·ZAO薄膜光学性能机理 | 第33-35页 |
| ·ZAO薄膜的结构 | 第35-36页 |
| ·ZAO薄膜的AES分析结果 | 第36-38页 |
| ·ZAO薄膜的表面形貌 | 第38-40页 |
| ·工艺参数对ZAO薄膜性能的影响 | 第40-60页 |
| ·铝的掺杂量对ZAO薄膜性能的影响 | 第40-42页 |
| ·本底真空压力对ZAO薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
| ·靶电流密度对ZAO薄膜性能的影响 | 第45-47页 |
| ·氧流量对ZAO薄膜电学性能的影响 | 第47-48页 |
| ·基体温度对ZAO薄膜性能的影响 | 第48-54页 |
| ·工作气体压力对ZAO薄膜性能的影响 | 第54-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 ZAO薄膜的绒面制备及性能 | 第62-77页 |
| ·前言 | 第62-63页 |
| ·关于绒面 | 第63-65页 |
| ·绒面的定义 | 第63-64页 |
| ·绒面的表征 | 第64-65页 |
| ·绒面ZAO薄膜的制备工艺 | 第65-66页 |
| ·工作气体压力对绒面的影响 | 第66-68页 |
| ·基体温度对绒面的影响 | 第68-71页 |
| ·薄膜厚度与绒面绒度和粗糙度的关系 | 第71-73页 |
| ·绒面ZAO薄膜与绒面FTO薄膜的比较 | 第73-74页 |
| ·绒面ZAO薄膜的电学性能 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第五章 ZAO薄膜红外反射性能与防结雾性能 | 第77-86页 |
| ·前言 | 第77-78页 |
| ·工艺因素对ZAO薄膜红外反射性能的影响 | 第78-84页 |
| ·厚度的影响 | 第79-80页 |
| ·基体温度的影响 | 第80-82页 |
| ·氩气压力的影响 | 第82-84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 第六章 氧化锌硅靶材制备及薄膜性能初步研究 | 第86-96页 |
| ·前言 | 第86-87页 |
| ·ZSO靶材的制备 | 第87-91页 |
| ·ZSO靶材制备的工艺研究 | 第87-91页 |
| ·ZSO靶材制备的优化工艺路线 | 第91页 |
| ·ZSO薄膜的制备 | 第91-95页 |
| ·基体温度的影响 | 第92-93页 |
| ·氩气压力的影响 | 第93-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第七章 结论 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第104页 |
