致谢 | 第1-5页 |
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
1 绪论 | 第11-32页 |
·引言 | 第11-13页 |
·基于TiO_2的自清洁效应 | 第13-19页 |
·锐钛矿TiO_2的超亲水性 | 第13-15页 |
·微纳结构对材料表面浸润性的影响 | 第15-19页 |
·电帘技术 | 第19-26页 |
·电帘的结构 | 第19-20页 |
·介质阻挡放电 | 第20-23页 |
·电帘的工作原理 | 第23-25页 |
·电帘的应用 | 第25-26页 |
·本论文的研究内容 | 第26-27页 |
参考文献 | 第27-32页 |
2 防污除尘结构的制备 | 第32-41页 |
·化学材料和实验设备 | 第32-34页 |
·化学试剂 | 第32-33页 |
·实验设备 | 第33-34页 |
·自清洁表面的制备工艺 | 第34-37页 |
·旋转涂布法制备颗粒层 | 第34-35页 |
·静电自组装工艺 | 第35-37页 |
·电帘结构的制备工艺 | 第37-40页 |
·湿法刻蚀工艺 | 第37-39页 |
·镀绝缘介质膜 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-41页 |
3 光学器件表面防污除尘结构的性能表征 | 第41-46页 |
·表面形貌探测 | 第41-42页 |
·光催化特性测试 | 第42-43页 |
·表面湿润性表征 | 第43-44页 |
·除尘效率测试 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-46页 |
4 超亲水性双层颗粒阵列结构的制备及性能测试 | 第46-58页 |
·SiO_2-TiO_2双层颗粒阵列结构的理论粗糙度 | 第46-48页 |
·纳米SiO_2-TiO_2双层颗粒阵列结构的制备 | 第48-50页 |
·旋涂法制备SiO_2纳米颗粒阵列层 | 第49页 |
·提拉法制备TiO_2纳米颗粒阵列层 | 第49-50页 |
·SiO_2-TiO_2双层颗粒阵列结构薄膜的测试结果 | 第50-54页 |
·微结构测试 | 第50-51页 |
·光催化特性 | 第51-52页 |
·湿润性测试 | 第52-54页 |
·粗糙度分析 | 第54页 |
·结论 | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-58页 |
5 电帘的性能测试 | 第58-65页 |
·单相电帘的制备 | 第58-59页 |
·除尘效率测试 | 第59-63页 |
·结论 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-65页 |
6 总结与展望 | 第65-67页 |
·论文工作总结 | 第65-66页 |
·未来的展望 | 第66-67页 |
硕士期间取得成果 | 第67页 |