| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-11页 |
| 目录 | 第11-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-31页 |
| 1．1 研究的背景与意义 | 第16-17页 |
| 1．2 弛豫铁电陶瓷概述 | 第17-21页 |
| 1．2．1 发展历史 | 第17-18页 |
| 1．2．2 晶胞结构 | 第18页 |
| 1．2．3 弛豫铁电陶瓷的弛豫特性 | 第18-20页 |
| 1．2．4 弛豫铁电陶瓷的应用要求 | 第20-21页 |
| 1．3 NiZn铁氧体材料概述 | 第21-24页 |
| 1．4 异种材料的共烧研究概况 | 第24页 |
| 1．5 论文的主要研究内容及技术路线 | 第24-25页 |
| 1．6 本文的主要成果及创新 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 第二章 实验方法 | 第31-36页 |
| 2．1 电子陶瓷的制备工艺 | 第31-32页 |
| 2．1．1 介电材料和铁氧体材料制备工艺 | 第31-32页 |
| 2．1．2 叠层共烧体干压成型制备工艺 | 第32页 |
| 2．1．3 叠层共烧体流延成型制备工艺 | 第32页 |
| 2．2 陶瓷的相组成分析 | 第32-33页 |
| 2．3 陶瓷的密度 | 第33页 |
| 2．4 陶瓷的径向收缩率 | 第33页 |
| 2．5 陶瓷的热膨胀 | 第33页 |
| 2．6 陶瓷的显微组织分析 | 第33-35页 |
| 2．6．1 陶瓷的断口形貌分析 | 第34页 |
| 2．6．2 陶瓷的平均晶粒尺寸 | 第34页 |
| 2．6．3 界面成分分析 | 第34页 |
| 2．6．4 晶格常数的计算 | 第34-35页 |
| 2．7 陶瓷的组成元素价态的分析 | 第35页 |
| 2．8 陶瓷的电性能 | 第35-36页 |
| 2．8．1 陶瓷的介电温度特性 | 第35页 |
| 2．8．2 陶瓷的介电频率特性 | 第35页 |
| 2．8．3 陶瓷的绝缘电阻率 | 第35-36页 |
| 第三章 PNN基介电陶瓷的制备及其低温烧结 | 第36-50页 |
| 3．1 介电材料的选材原则 | 第36-37页 |
| 3．2 0．8PNN-0．2PT陶瓷的制备及介电性能 | 第37-43页 |
| 3．2．1 样品制备 | 第37-38页 |
| 3．2．2 烧结温度对0．8PNN-0．2PT陶瓷相组成的影响 | 第38-39页 |
| 3．2．3 烧结温度对0．8PNN-0．2PT陶瓷显微组织结构的影响 | 第39-41页 |
| 3．2．4 烧结温度对0．8PNN-0．2PT陶瓷电性能的影响 | 第41页 |
| 3．2．5 0．8PNN-0．2PT陶瓷的介电温度特性 | 第41-43页 |
| 3．3 低温烧结0．8PNN-0．2PT陶瓷的相结构和介电性能 | 第43-47页 |
| 3．3．1 样品制备 | 第43-44页 |
| 3．3．2 低温烧结0．8PNN-0．2PT陶瓷的相结构 | 第44页 |
| 3．3．3 低温烧结0．8PNN-0．2PT陶瓷的显微组织结构 | 第44-45页 |
| 3．3．4 低温烧结0．8PNN-0．2PT陶瓷的介电性能 | 第45-47页 |
| 3．4 本章小结 | 第47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第四章 PNN基介电陶瓷与（Ni（0．5）Zn_（0．4）Cu_（0．1）Fe_2O_4铁氧体叠层低温共烧行为的研究 | 第50-72页 |
| 4．1 引言 | 第50页 |
| 4．2 实验过程 | 第50-51页 |
| 4．3 两种组成材料的相结构和烧结特性 | 第51-52页 |
| 4．3．1 PNN基介电陶瓷的相结构和烧结特性 | 第51-52页 |
| 4．3．2 （Ni_（0．5）Zn_（0．4）Cu_（0．1））Fe_2O_4铁氧体的相结构和烧结特性 | 第52页 |
| 4．4 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．5）Zn_（0．4）Cu_（0．1））Fe_2O_4的叠层低温共烧研究 | 第52-58页 |
| 4．4．1 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．5）Zn_（0．4）Cu_（0．1））Fe_2O_4铁氧体的化学相容性 | 第52-54页 |
| 4．4．2 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．5）Zn_（0．4）Cu_（0．1））Fe_2O_4铁氧体的共烧匹配性 | 第54页 |
| 4．4．3 叠层共烧样品的翘曲行为 | 第54-55页 |
| 4．4．4 叠层共烧样品的界面显微组织 | 第55-58页 |
| 4．5 叠层共烧体翘曲机制及其影响因素 | 第58-70页 |
| 4．5．1 叠层共烧体的翘曲几何学模型及理论分析 | 第59-61页 |
| 4．5．2 翘曲的粘弹性力学分析 | 第61-65页 |
| 4．5．3 翘曲的动力学分析及影响因素 | 第65-70页 |
| 4．6 本章小结 | 第70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第五章 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．8）Zn_（0．12）CH_（0．12））Fe_（1．96）O_4铁氧体叠层低温共烧行为的研究 | 第72-89页 |
| 5．1 引言 | 第72页 |
| 5．2 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．8）Zn_（0．12）Cu_（0．12））Fe_（1．96）O_4的烧结动力学 | 第72-79页 |
| 5．2．1 烧结动力学理论分析 | 第73-74页 |
| 5．2．2 实验过程 | 第74页 |
| 5．2．3 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．8）Zn_（0．12）Cu_（0．12））Fe_（1．96）O_4的烧结传质机制 | 第74-75页 |
| 5．2．4 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．8）Zn_（0．12）Cu_（0．12））Fe_（1．96）O_4的烧结激活能 | 第75-76页 |
| 5．2．5 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．8）Zn_（0．12）Cu_（0．12））Fe_（1．96）O_4的烧结收缩行为 | 第76-78页 |
| 5．2．6 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．8）Zn_（0．12）Cu_（0．12））Fe_（1．96）O_4的烧结动力学方程 | 第78-79页 |
| 5．3 PNN基介电陶瓷与（Ni_（0．8）Zn_（0．12）Cu_（0．12））Fe_（1．96）O_4的叠层低温共烧 | 第79-86页 |
| 5．3．1 实验过程 | 第79页 |
| 5．3．2 不同保温时间下材料的相结构 | 第79-82页 |
| 5．3．3 叠层共烧体的宏观形貌 | 第82页 |
| 5．3．4 叠层共烧体的显微组织结构 | 第82-85页 |
| 5．3．5 叠层共烧体的界面结合性能 | 第85-86页 |
| 5．4 本章小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-89页 |
| 第六章 叠层共烧体界面离子扩散行为及电性能的研究 | 第89-117页 |
| 6．1 引言 | 第89页 |
| 6．2 叠层共烧体组成元素的价态分析 | 第89-93页 |
| 6．2．1 样品制备 | 第89-90页 |
| 6．2．2 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第90-93页 |
| 6．3 共烧界面离子扩散行为 | 第93-99页 |
| 6．3．1 界面处离子互扩散 | 第93-94页 |
| 6．3．2 界面处离子浓度分布的数值模拟 | 第94-98页 |
| 6．3．3 离子的扩散系数 | 第98-99页 |
| 6．4 叠层共烧体界面处介电材料晶粒异常长大机理 | 第99-103页 |
| 6．4．1 介电材料和铁氧体材料晶粒生长机制 | 第99-100页 |
| 6．4．2 钙钛矿相离子固溶的理论分析 | 第100-102页 |
| 6．4．3 界面处晶粒异常长大机理 | 第102-103页 |
| 6．5 叠层共烧体的电学特性 | 第103-113页 |
| 6．5．1 等效电路理论分析 | 第103-104页 |
| 6．5．2 介电材料和铁氧体材料的等效电路参数 | 第104-106页 |
| 6．5．3 叠层共烧体的等效电路参数 | 第106-108页 |
| 6．5．4 叠层共烧体的介电常数频率特性 | 第108-110页 |
| 6．5．5 扩散层对叠层共烧体电性能的影响 | 第110-111页 |
| 6．5．6 叠层共烧体的介电损耗频率特性 | 第111-113页 |
| 6．6 本章小结 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-117页 |
| 第七章 中间层的相结构及其电性能 | 第117-132页 |
| 7．1 引言 | 第117页 |
| 7．2 实验过程 | 第117-118页 |
| 7．3 中间层的相结构和烧结特性 | 第118-122页 |
| 7．3．1 不同烧结温度下中间层的相结构 | 第118-119页 |
| 7．3．2 不同烧结温度下中间层的密度和收缩率 | 第119-120页 |
| 7．3．3 不同保温时间下中间层的相结构和晶格常数 | 第120-122页 |
| 7．4 中间层的显微组织结构 | 第122-123页 |
| 7．5 中间层的介电性能 | 第123-130页 |
| 7．5．1 中间层的介电频率特性 | 第123-124页 |
| 7．5．2 中间层的介电温度特性 | 第124-128页 |
| 7．5．3 中间层介电常数的数值模拟 | 第128-130页 |
| 7．6 本章小结 | 第130-131页 |
| 参考文献 | 第131-132页 |
| 第八章 介电体／中间层／铁氧体的叠层低温共烧 | 第132-143页 |
| 8．1 引言 | 第132页 |
| 8．2 实验过程 | 第132页 |
| 8．3 介电体／中间层／铁氧体的叠层低温共烧素坯体的界面形貌 | 第132-133页 |
| 8．4 介电体／中间层／铁氧体叠层共烧体的宏观形貌 | 第133-134页 |
| 8．5 铁氧体／中间层的界面显微组织形貌 | 第134-135页 |
| 8．6 介电体／中间层的界面显微组织形貌 | 第135-139页 |
| 8．7 介电体／中间层／铁氧体三层共烧体的界面结合性能 | 第139页 |
| 8．8 介电体／中间层／铁氧体三层共烧体的电性能 | 第139-141页 |
| 8．9 本章小结 | 第141-142页 |
| 参考文献 | 第142-143页 |
| 第九章 结论 | 第143-145页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第145-147页 |
| 攻读博士学位期间获得的奖励 | 第147-148页 |
| 致谢 | 第148页 |
