| 第一章 引言 | 第1-13页 |
| 1．1 等离子体与固体表面相互作用的基本过程 | 第6-9页 |
| 1．2 二次电子对鞘层影响的研究进展 | 第9-12页 |
| 1．3 本文内容简介 | 第12-13页 |
| 第二章 电子发射对悬浮板鞘层影响的流体力学模拟 | 第13-21页 |
| 2．1 理论模型 | 第13-16页 |
| 2．2 结果与讨论 | 第16-19页 |
| 2．3 本章小结 | 第19-21页 |
| 第三章 电子发射对氩辉光放电等离子体负偏压稳态鞘层的影响 | 第21-36页 |
| 3．1 理论模型 | 第21-24页 |
| 3．2 结果与讨论 | 第24-35页 |
| 3．3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 对沉积金刚石膜及类金刚石膜工艺中的鞘层的数值模拟 | 第36-53页 |
| 4．1 金刚石及类金刚石特性和本章的工作 | 第36-37页 |
| 4．2 金刚石成膜工艺中鞘层演化的特性 | 第37-44页 |
| 4．2．1． 理论模型 | 第38-41页 |
| 4．2．2． 结果与讨论 | 第41-44页 |
| 4．3 类金刚石成膜工艺中鞘层演化的特性 | 第44-52页 |
| 4．3．1． 理论模型 | 第44-47页 |
| 4．3．2． 结果与讨论 | 第47-52页 |
| 4．4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论与设想 | 第53-56页 |
| 5．1 本文主要结论 | 第53-54页 |
| 5．2 今后工作设想 | 第54-56页 |
| 附录 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |