| 1.绪论 | 第1-34页 |
| ·选题的背景和意义 | 第16页 |
| ·L-半胱氨酸的合成 | 第16-21页 |
| ·合成方法与技术进展 | 第16-17页 |
| ·合成过程机理及热力学分析 | 第17-21页 |
| ·研究现状 | 第21页 |
| ·电催化技术用于L-半胱氨酸电解合成研究的构想 | 第21-23页 |
| ·电极 | 第21-22页 |
| ·电催化 | 第22-23页 |
| ·研究内容和方法 | 第23-29页 |
| ·电极材料 | 第23-24页 |
| ·电极修饰方法 | 第24-25页 |
| ·电极修饰条件 | 第25-27页 |
| ·电解工艺条件 | 第27-29页 |
| ·拟采取的研究流程、解决的关键问题和预期的目标 | 第29页 |
| ·研究流程 | 第29页 |
| ·拟解决的关键问题和预期的目标、结果 | 第29页 |
| ·课题的特色和创新 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-34页 |
| 2.修饰电极的制备和反应性能的评价 | 第34-64页 |
| ·电极材料的筛选 | 第34-45页 |
| ·化学试剂 | 第34-35页 |
| ·实验仪器 | 第35页 |
| ·活性评价 | 第35-36页 |
| ·反应条件初探及反应转化率的检测 | 第36-39页 |
| ·几种金属单质的筛选 | 第39-43页 |
| ·合金修饰电极的筛选 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| ·修饰条件对电极反应性能的影响 | 第45-57页 |
| ·修饰液温度对电极反应性能的影响 | 第45-47页 |
| ·修饰液pH对电极反应性能的影响 | 第47-49页 |
| ·修饰电流对电极反应性能的影响 | 第49-50页 |
| ·F~-／Sn~(2+)摩尔比对修饰电极性能的影响 | 第50-51页 |
| ·两种主盐质量比对修饰电极反应性能的影响 | 第51-54页 |
| ·热处理对修饰电极反应性能的影响 | 第54-55页 |
| ·基体材料对电极反应性能的影响 | 第55-57页 |
| ·小结 | 第57页 |
| ·添加金属氧化物的复合镀层对反应性能的影响 | 第57-60页 |
| ·添加La、Ce、In对电极反应性能的影响 | 第60-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 3.电解工艺条件的探讨 | 第64-74页 |
| ·温度对反应的影响 | 第64-65页 |
| ·电解电压对反应的影响 | 第65-67页 |
| ·盐酸／胱氨酸摩尔比对反应的影响 | 第67-68页 |
| ·尿素含量对反应的影响 | 第68-70页 |
| ·传质对反应的影响 | 第70-71页 |
| ·恒电流法对电极反应过程考察 | 第71-72页 |
| ·电极反应的稳定性研究 | 第72-73页 |
| ·小结 | 第73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |
| 4.修饰电极的表征及反应机理的分析 | 第74-117页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·表征研究实验方法 | 第74-75页 |
| ·催化剂的SEM-EDX研究 | 第74页 |
| ·多晶X射线衍射(XRD)研究 | 第74页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)研究 | 第74页 |
| ·稳态伏安法对电极极化曲线的考察 | 第74-75页 |
| ·可见分光光度法对样品纯度的分析 | 第75页 |
| ·电极表面SEM-EDX研究 | 第75-86页 |
| ·修饰温度对电极表面状态的影响 | 第75页 |
| ·修饰液pH对电极表面状态的影响 | 第75页 |
| ·修饰电流密度对电极表面状态的影响 | 第75-79页 |
| ·F~-／Sn~(2+)摩尔比对电极表面状态的影响 | 第79页 |
| ·Ni／Sn质量比对电极表面状态的影响 | 第79-80页 |
| ·热处理对电极表面状态的影响 | 第80页 |
| ·石墨基体电极表面状态的观察 | 第80-82页 |
| ·反应后电极的表面状态 | 第82页 |
| ·电极表面EDX研究 | 第82-85页 |
| ·小结 | 第85-86页 |
| ·修饰电极多晶X射线(XRD)研究 | 第86-93页 |
| ·不同修饰温度下电极的XRD衍射图 | 第86-87页 |
| ·不同修饰液pH值下电极的XRD衍射图 | 第87-88页 |
| ·不同修饰电流下电极的XRD衍射图 | 第88页 |
| ·不同修饰液F~-／Sn~(2+)摩尔比下电极的XRD衍射图 | 第88-89页 |
| ·不同Ni盐／Sn盐质量比下电极的XRD衍射图 | 第89-90页 |
| ·不同热处理温度下修饰电极的XRD衍射图 | 第90页 |
| ·反应前后电极的XRD谱图 | 第90-91页 |
| ·小结 | 第91-93页 |
| ·X射线光电子能谱研究(XPS) | 第93-109页 |
| ·修饰液pH值对电极表面元素键合状态的影响 | 第93-95页 |
| ·修饰电流对电极表面元素键合状态的影响 | 第95-97页 |
| ·F~-／Sn~(2+)摩尔比对电极表面元素键合状态的影响 | 第97-99页 |
| ·Ni／Sn物种质量比对电极表面元素键合状态的影响 | 第99-102页 |
| ·反应前后电极表面元素的键合状态 | 第102-104页 |
| ·刻蚀对电极表面元素键合价态的影响 | 第104-107页 |
| ·XPS对电极表面各元素含量的研究 | 第107-108页 |
| ·小结 | 第108-109页 |
| ·稳态极化曲线对电极反应过程考察 | 第109-115页 |
| ·修饰温度的影响 | 第109页 |
| ·修饰液pH值的影响 | 第109页 |
| ·修饰电流的影响 | 第109页 |
| ·修饰液中F~-／Sn~(2+)摩尔比的影响 | 第109-112页 |
| ·修饰液中Ni盐／Sn盐质量比的影响 | 第112页 |
| ·热处理的影响 | 第112页 |
| ·基体材料的影响 | 第112页 |
| ·小结 | 第112-115页 |
| ·可见分光光度法对产品纯度的分析 | 第115-116页 |
| ·可能的反应机理 | 第116页 |
| 参考文献 | 第116-117页 |
| 5.结论 | 第117-119页 |
| 进一步研究的建议 | 第119-120页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第120-121页 |
| 致谢 | 第121页 |
