摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-15页 |
第一章 绪论 | 第15-33页 |
§1.1 LED的重要意义 | 第15页 |
§1.2 LED的优点、应用领域及市场前景 | 第15-16页 |
§1.3 LED的外量子效率以及降低外量子效率的原因 | 第16-18页 |
§1.4 目前国际上提高LED光提取效率的方法 | 第18-22页 |
§1.4.1 生长分布布拉格反射层(DBR)结构 | 第18-19页 |
§1.4.2 制作透明衬底LED(TS-LED) | 第19-20页 |
§1.4.3 倒金字塔形LED | 第20页 |
§1.4.4 表面粗化技术 | 第20-21页 |
§1.4.5 光子晶体方法 | 第21-22页 |
§1.5 光子晶体LED的种类及制作方法分析 | 第22-29页 |
§1.5.1 光子晶体谐振腔LED | 第22-23页 |
§1.5.2 深刻蚀光子晶体LED结构 | 第23-24页 |
§1.5.3 表面光子晶体LED结构 | 第24-26页 |
§1.5.4 衬底光子晶体LED结构 | 第26-28页 |
§1.5.5 全方位结构 | 第28-29页 |
§1.6 本研究的特点 | 第29-30页 |
§1.7 本文的主要内容 | 第30-31页 |
[参考文献] | 第31-33页 |
第二章 全息术制作二维六角光子晶体图形的模拟分析 | 第33-53页 |
§2.1 全息方法实现二维六角光子晶体的理论基础 | 第33-36页 |
§2.2 计算模拟三束光干涉的光强分布 | 第36-41页 |
§2.3 计算机模拟全息光子晶体在光刻胶中的制作 | 第41-45页 |
§2.3.1 光刻胶作为全息记录材料的机理 | 第42页 |
§2.3.2 在光刻胶上制作二维六角光子晶体显影过程的模拟 | 第42-45页 |
§2.4 二维六角全息光子晶体制作光路系统的理论分析 | 第45-51页 |
§2.5 本章小结 | 第51-52页 |
[参考文献] | 第52-53页 |
第三章 在ITO表面制作二维六角全息光子晶体结构 | 第53-91页 |
§3.1 光子晶体提高LED外量子效率的基本原理 | 第53-62页 |
§3.1.1 制约LED外量子效率的主要原因 | 第53-55页 |
§3.1.2 光子晶体提高LED光提取效率的基本原理 | 第55-57页 |
§3.1.3 使用光子晶体作为表面光栅提高LED光提取效率的理论分析 | 第57-62页 |
§3.2 光子晶体LED的实验制作及测试 | 第62-88页 |
§3.2.1 ITO材料的选取 | 第63页 |
§3.2.2 ITO的表面清洗处理 | 第63-64页 |
§3.2.3 光刻胶的选择与涂覆 | 第64-66页 |
§3.2.4 光刻胶上光子晶体图形的制作 | 第66-72页 |
§3.2.5 ITO上的光子晶体图形制作及测试结果 | 第72-88页 |
§3.3 本章小结 | 第88-90页 |
[参考文献] | 第90-91页 |
第四章 图形蓝宝石衬底(PSS)LED的设计与制作 | 第91-113页 |
§4.1 图形蓝宝石衬底(PSS)LED制作概述 | 第91-95页 |
§4.1.1 在倒置的GaN基LED的蓝宝石衬底表面制作二维光子晶体结构 | 第91-93页 |
§4.1.2 图形蓝宝石衬底(PSS)LED | 第93-95页 |
§4.2 图形蓝宝石衬底(PSS)的设计 | 第95-96页 |
§4.3 PSS-LED的实验制作及测试结果 | 第96-104页 |
§4.3.1 蓝宝石衬底表面清洗处理 | 第96页 |
§4.3.2 光刻胶的选择与涂覆 | 第96-97页 |
§4.3.3 光刻胶上二维六角光子晶体图形的制作 | 第97-101页 |
§4.3.4 PSS-LED的实验制作 | 第101-104页 |
§4.4 PSS-LED的光学和电学特性测试结果 | 第104-109页 |
§4.5 PSS提高LED外量子效率的原因分析 | 第109-111页 |
§4.6 本章小结 | 第111-112页 |
[参考文献] | 第112-113页 |
第五章 总结与展望 | 第113-118页 |
§5.1 本研究工作总结 | 第113-115页 |
§5.2 未来工作展望 | 第115-117页 |
[参考文献] | 第117-118页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第118-119页 |
致谢 | 第119-120页 |