| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·磁记录技术 | 第8-12页 |
| ·磁记录原理 | 第8-9页 |
| ·两种磁记录方式 | 第9-12页 |
| ·L1_0-FePt的基本性质及研究进展 | 第12-16页 |
| ·L1_0-FePt结构及性质 | 第12-13页 |
| ·L1_0-FePt研究进展及遇到的问题 | 第13-16页 |
| ·隧穿磁电阻效应 | 第16-18页 |
| ·本论文选题意义与研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第19-27页 |
| ·薄膜材料的制备 | 第19-23页 |
| ·薄膜的定义 | 第19页 |
| ·薄膜材料的特点 | 第19页 |
| ·薄膜的生长过程以及生长模式 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射 | 第20-22页 |
| ·电阻加热蒸发 | 第22页 |
| ·电子束蒸发法 | 第22-23页 |
| ·薄膜的表征 | 第23-27页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第23页 |
| ·薄膜磁特性的分析 | 第23-25页 |
| ·薄膜膜厚的测量 | 第25-26页 |
| ·薄膜表面形貌测量 | 第26-27页 |
| 第三章 利用FeAl下底层降低FePt薄膜的有序化温度 | 第27-42页 |
| ·L1_0结构的FePt薄膜的制备 | 第27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-41页 |
| ·FeAl下底层的制备与性质 | 第27-31页 |
| ·MgO中间层对FeAl下底层的形貌影响 | 第31-33页 |
| ·L1_0相FePt薄膜的形成 | 第33-34页 |
| ·MgO(001)基片/FeAl(100nm,Ta)/MgO(ynm)/FePt(xnm)薄膜的形貌 | 第34-37页 |
| ·MgO(001)基片/FeAl(Ta)/MgO(ynm)/FePt(xnm)薄膜磁性分析 | 第37-40页 |
| ·FePt薄膜有序化温度降低的原因分析 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 FeCo/MgO/Fe磁性隧道结的制备与性质 | 第42-46页 |
| ·基片清洗 | 第42页 |
| ·样品制备与表征 | 第42-43页 |
| ·实验结果与讨论 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表的署名学术论文 | 第54页 |
