铁氧体陶瓷无害金属化技术的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·铁氧体陶瓷 | 第9-10页 |
| ·金属化技术 | 第10-11页 |
| ·金属化工艺方法 | 第11-16页 |
| ·液相工艺 | 第11-13页 |
| ·固相工艺 | 第13页 |
| ·气相工艺 | 第13-16页 |
| ·影响金属化质量的因素 | 第16-17页 |
| ·瓷件本身的质量 | 第16-17页 |
| ·金属化膜层材料与厚度 | 第17页 |
| ·金属化工艺参数 | 第17页 |
| ·金属化技术的应用 | 第17-18页 |
| ·目前存在技术问题 | 第18-19页 |
| ·国内外研究状况 | 第19-20页 |
| ·本文的结构与主要工作 | 第20-21页 |
| 第二章 金属化薄膜的性能与设计 | 第21-34页 |
| ·金属化薄膜的性能 | 第21-28页 |
| ·抗拉性能 | 第21-27页 |
| ·焊接性能 | 第27-28页 |
| ·导电性能 | 第28页 |
| ·金属化薄膜的设计 | 第28-32页 |
| ·金属化膜层结构分析 | 第28-29页 |
| ·过渡层材料的理论分析 | 第29-30页 |
| ·阻挡层材料的理论分析 | 第30-31页 |
| ·焊接层材料的理论分析 | 第31-32页 |
| ·金属化薄膜的膜系结构 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 薄膜的制备与实验装置 | 第34-45页 |
| ·真空溅射镀膜技术 | 第34-38页 |
| ·基本原理 | 第34-35页 |
| ·溅射过程 | 第35-36页 |
| ·真空溅射法的优点 | 第36-38页 |
| ·实验装置与制备过程 | 第38-41页 |
| ·实验装置 | 第38-39页 |
| ·基片选择与清洗 | 第39-40页 |
| ·制备过程 | 第40-41页 |
| ·测试分析方法与原理 | 第41-44页 |
| ·焊接性与抗拉性测试 | 第41-42页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第42-43页 |
| ·膜厚的测量 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第45-73页 |
| ·金属化膜层材料对其性能的影响 | 第45-50页 |
| ·不同过渡层材料对性能的影响 | 第45-47页 |
| ·不同阻挡层材料对性能的影响 | 第47-50页 |
| ·不同焊接层材料对性能的影响 | 第50页 |
| ·金属化膜系结构对其性能的影响 | 第50-51页 |
| ·金属化膜层厚度对其性能的影响 | 第51-54页 |
| ·过渡层厚度对其性能的影响 | 第51-52页 |
| ·阻挡层厚度对其性能的影响 | 第52-53页 |
| ·焊接层厚度对其性能的影响 | 第53-54页 |
| ·溅射工艺参数对薄膜性能的影响 | 第54-64页 |
| ·溅射功率的影响 | 第55-59页 |
| ·靶片间距的影响 | 第59-61页 |
| ·溅射气压的影响 | 第61-64页 |
| ·最优金属化薄膜的结构与性能 | 第64-68页 |
| ·金属化薄膜在95%Al_2O_3陶瓷上的应用 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第五章 产业化思考与研究 | 第73-79页 |
| ·掩膜模具的设计 | 第73-74页 |
| ·金属化质量与效率的控制 | 第74-76页 |
| ·溅射与蒸发工艺的对比 | 第76-77页 |
| ·连续式生产的设计思想 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 结论与展望 | 第79-82页 |
| ·结论与创新点 | 第79-80页 |
| ·展望 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
