基于AAO模板的SERS基底研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
第一章 引言	第9-24页
·拉曼散射简介	第9-11页
·拉曼光谱应用	第11-14页
·拉曼散射技术的发展	第14-17页
·表面增强拉曼散射活性基底	第17-22页
·本文的主要研究意义、目的、内容	第22-24页
第二章 AAO模板的制备及表征	第24-44页
·引言	第24-25页
·AAO模板主要制备方法简介	第25-26页
·AAO模板的制备	第26-33页
·AAO的XRD表征及分析	第33-34页
·氧化过程的形成机制的探讨	第34-37页
·AAO模板的J-T全程精细监控	第37-43页
·本章小结	第43-44页
第三章 直流电化学沉积金属纳米阵列	第44-57页
·引言	第44页
·直流电沉积的工艺及电解液	第44-45页
·阶梯降压减阻挡层的最佳工艺探索	第45-48页
·直流电化学沉积金属纳米阵列	第48-54页
·纳米阵列的表征	第54-55页
·本章小结	第55-57页
第四章 多种SERS基底的表面增强拉曼光谱	第57-77页
·三聚氰胺的性质	第57-59页
·三聚氰胺的拉曼光谱分析	第59-61页
·纳米阵列的SERS光谱	第61-64页
·热分解法基底的SERS光谱	第64-66页
·溶剂热法基底的SERS光谱	第66-69页
·银胶的SERS光谱	第69-72页
·提纯后银胶的SERS光谱	第72-73页
·各种SERS活性基底的对比	第73-75页
·本章小结	第75-77页
第五章 结论和展望	第77-78页
致谢	第78-79页
参考文献	第79-87页
附录 (攻读硕士学位期间发表的论文)	第87页