| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·HIT太阳能电池的结构与特点 | 第11-12页 |
| ·HIT太阳能电池的结构 | 第11-12页 |
| ·HIT太阳能电池的特点 | 第12页 |
| ·HIT太阳能电池的研究与发展现状 | 第12-15页 |
| ·HIT太阳能电池存在的问题及解决方案 | 第15页 |
| ·本论文的研究内容 | 第15-17页 |
| 2 实验设备与检测方法 | 第17-28页 |
| ·实验设备 | 第17-21页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积 | 第17-19页 |
| ·射频磁控溅射 | 第19-21页 |
| ·薄膜检测方法 | 第21-28页 |
| ·薄膜厚度、表面形貌及成分的表征 | 第21-22页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第22-25页 |
| ·薄膜的光学性能表征 | 第25-26页 |
| ·薄膜的电学性能表征 | 第26-28页 |
| 3 多晶硅基片清洗与绒面处理 | 第28-38页 |
| ·多晶硅绒面制备技术概况 | 第28-31页 |
| ·NH_4NO_3/HNO_3/HF/H_2O体系中多晶硅腐蚀坑的形成机理 | 第31-32页 |
| ·实验及结果 | 第32-38页 |
| ·NH_4NO_3加入量对多晶硅表面形貌的影响 | 第33-35页 |
| ·NH_4NO_3加入量对多晶硅表面光反射率的影响 | 第35页 |
| ·超声辅助对多晶硅绒面效果的影响 | 第35-38页 |
| 4 硅掺杂层的制备与研究 | 第38-51页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·本征非晶硅层 | 第39-46页 |
| ·氩氢比对薄膜性能的影响 | 第39-43页 |
| ·硅烷流量对薄膜性能的影响 | 第43-46页 |
| ·N型磷掺杂非晶硅层 | 第46-51页 |
| ·掺杂浓度(PH_3/SiH_4)对N型非晶硅薄膜结构性能的影响 | 第47页 |
| ·掺杂浓度(PH_3/SiH_4)对N型非晶硅薄膜光学性能的影响 | 第47-49页 |
| ·掺杂浓度(PH_3/SiH_4)对N型非晶硅薄膜电学性能的影响 | 第49-51页 |
| 5 AZO透明导电膜的制备与性能研究 | 第51-67页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·AZO薄膜的制备 | 第51-52页 |
| ·单靶与双靶溅射对薄膜结构和性能的影响 | 第52-57页 |
| ·沉积参数对AZO薄膜结构和性能的影响 | 第57-67页 |
| ·沉积参数对薄膜结构的影响 | 第57-62页 |
| ·AZO薄膜电学性能 | 第62-65页 |
| ·AZO薄膜的光学性能 | 第65-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
