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ssDNA掺杂下聚吡咯薄膜增长及其电化学微致动行为

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
1 绪论第10-20页
   ·问题的提出及研究意义第10-11页
   ·国内外研究现状第11-18页
     ·吡咯的发现及应用第11-13页
     ·吡咯聚合厚度表征第13-14页
     ·聚吡咯膜体积变化表征第14-15页
     ·Micro-PIV 技术第15-16页
     ·聚吡咯电化学DNA 传感器阵列第16-18页
   ·研究目的和内容第18-19页
     ·研究目的第18页
     ·研究内容第18-19页
   ·技术路线第19-20页
2 不同掺杂剂下的吡咯电化学聚合膜厚研究第20-32页
   ·引言第20页
   ·实验材料与研究方法第20-24页
     ·实验材料第20-21页
     ·研究方法第21-22页
     ·理论值与测量值的比较第22-24页
   ·不同掺杂离子下的吡咯电化学聚合膜厚第24-30页
     ·电化学吡咯聚合机理第24-26页
     ·无机离子(Cl~- ,DBS~-)为掺杂剂的吡咯电化学聚合第26-28页
     ·去离子水中的吡咯电化学聚合第28-29页
     ·单链DNA 为掺杂剂的吡咯电化学聚合第29-30页
   ·小结第30-32页
3 不同离子掺杂下聚吡咯膜电化学氧化还原引起的体积变化率第32-40页
   ·引言第32页
   ·不同电化学参数下聚吡咯膜体积变化率第32-33页
     ·同一扫描速度不同扫描电压下的聚吡咯膜体积变化率第32-33页
     ·同一扫描电压不同扫描速度下的聚吡咯膜体积变化率第33页
   ·不同掺杂剂下聚吡咯薄膜的体积变化第33-38页
     ·由Cl~-掺杂引起的PPy 膜的体积变化第33-35页
     ·由Poly(A)掺杂引起的PPy 膜的体积变化第35-38页
   ·寡核苷酸链掺杂下聚吡咯薄膜厚度与体积变化关系第38页
   ·小结第38-40页
4 聚合膜电化学氧化还原过程中离子运动的micro-PIV 初探第40-46页
   ·Micro-PIV 技术研究方法第40-41页
   ·实验结果第41-45页
     ·Cl-掺杂的聚吡咯膜氧化还原过程溶液流场的micro-PIV 分析第41-43页
     ·Poly(A)20 掺杂的聚吡咯膜氧化还原过程溶液流场的micro-PIV 分析第43-45页
   ·讨论第45页
   ·结论第45-46页
5 微通道内微点阵列的构建及其在DNA 固定与杂交中的应用第46-56页
   ·引言第46页
   ·微通道内微点阵列的构建第46-48页
     ·主要仪器与材料第46页
     ·微通道内微点阵列的构建方法第46-48页
   ·通道内微点阵列上的DNA 固定第48-50页
   ·通道内微点阵列上的DNA 杂交第50-55页
     ·荧光标记法第50-51页
     ·基底致动与非致动下的杂交结果第51-52页
     ·不同直径通道中的杂交结果比较第52-53页
     ·不同杂交时间的结果比较第53-55页
   ·小结第55-56页
6 结论及后续工作建议第56-58页
   ·结论第56-57页
   ·后续工作建议第57-58页
致谢第58-59页
参考文献第59-65页
附录第65页
 A. 作者在攻读硕士学位期间取得的科研成果目录第65页
 B. 作者在攻读硕士学位期间参加的科研项目第65页

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