| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·TiO_2光催化机理及复合镀技术的应用 | 第8-10页 |
| ·TiO_2光催化机理 | 第8-9页 |
| ·复合镀技术的应用 | 第9-10页 |
| ·TiO_2光催化剂的制备方法 | 第10-13页 |
| ·纳米TiO_2粉体的制备方法 | 第10-12页 |
| ·纳米TiO_2膜的制备方法 | 第12-13页 |
| ·纳米TiO_2块材的制备方法 | 第13页 |
| ·复合镀制备TiO_2薄膜的研究 | 第13-14页 |
| ·TiO_2光催化剂的研究现状 | 第14-15页 |
| ·可见光催化活性TiO_2催化剂的研究现状 | 第15-16页 |
| ·TiO_2的掺杂改性研究 | 第15-16页 |
| ·TiO_2的光敏化研究 | 第16页 |
| ·掺杂TiO_2光催化剂的制备研究进展 | 第16-18页 |
| ·金属离子掺杂 | 第16-17页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第17-18页 |
| ·本论文研究意义及主要研究内容 | 第18-20页 |
| ·研究意义 | 第18页 |
| ·主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 化学沉积法制备Ni-P-TiO_2薄膜及光催化性能研究 | 第20-36页 |
| ·引言 | 第20-21页 |
| ·实验部分 | 第21-26页 |
| ·实验药品、材料和仪器 | 第21页 |
| ·化学沉积Ni-P-TiO_2工艺流程及实验装置 | 第21-23页 |
| ·化学沉积Ni-P-TiO_2的工艺条件 | 第23-24页 |
| ·正交实验 | 第24-26页 |
| ·实验结果及讨论 | 第26-35页 |
| ·镀层的结构表征分析 | 第26-31页 |
| ·Ni-P-TiO_2复合镀层的光催化降解的效果 | 第31页 |
| ·镀膜温度对光催化性能的影响 | 第31-32页 |
| ·镀液pH值对复合镀层光催化性能的影响 | 第32-33页 |
| ·热处理温度对光催化性能的影响 | 第33页 |
| ·不同光源对光催化性能的影响 | 第33-34页 |
| ·表面活性剂对光催化性能的影响 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 电化学复合沉积制备Ni-P-TiO_2薄膜的及其光催化性能 | 第36-48页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验部分 | 第36-40页 |
| ·实验药品、材料和仪器 | 第36-37页 |
| ·工艺流程及实验装置 | 第37-38页 |
| ·正交实验 | 第38-40页 |
| ·实验结果及讨论 | 第40-45页 |
| ·Ni-P-TiO_2复合镀层的测试及分析 | 第40-43页 |
| ·阴极电流密度对复合薄膜光催化性能的影响 | 第43-44页 |
| ·电镀时间对复合薄膜光催化性能的影响 | 第44页 |
| ·施镀温度对复合薄膜光催化性能的影响 | 第44-45页 |
| ·TiO_2加入量对薄膜中光催化性能的影响 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-48页 |
| 第四章 稀土铈改性复合薄膜的制备及其光催化性能 | 第48-60页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验部分 | 第48-51页 |
| ·实验药品、材料和仪器 | 第48-49页 |
| ·工艺流程及实验装置 | 第49-50页 |
| ·掺杂改性复合镀Ni-P-TiO_2膜的工艺条件 | 第50-51页 |
| ·实验结果及讨论 | 第51-58页 |
| ·参杂改性复合镀层的测试及分析 | 第51-56页 |
| ·CeO_2粉体掺杂对光催化性能的影响 | 第56-57页 |
| ·Ce~(4+)离子掺杂对光催化性能的影响 | 第57-58页 |
| ·Ce~(3+)离子掺杂对光催化性能的影响 | 第58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| ·主要实验结果与讨论 | 第60-61页 |
| ·展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 研究生成果 | 第70页 |