摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-23页 |
·常见薄膜制备技术 | 第10-13页 |
·化学气相沉积法 | 第10-11页 |
·物理气相沉积法 | 第11-13页 |
·电弧离子镀镀膜机理和特点 | 第13-15页 |
·电弧离子镀镀层的应用 | 第15-17页 |
·硬质防护薄膜的沉积 | 第16页 |
·多层结构薄膜和纳米多层结构薄膜的制备 | 第16页 |
·合金化的化合物薄膜的制备 | 第16-17页 |
·金属氮化物膜层的性能、特点和研究现状 | 第17-22页 |
·二元金属氮化物的“合金化” | 第17-20页 |
·薄膜纳米复合结构和纳米多层结构 | 第20-22页 |
·本课题研究的背景及意义 | 第22-23页 |
第二章 实验材料及方法 | 第23-27页 |
·实验材料 | 第23页 |
·实验设备 | 第23-25页 |
·实验过程及方法 | 第25-27页 |
·TiN 膜的制备 | 第25页 |
·Ti/TiN 多层膜的制备 | 第25页 |
·显微结构分析 | 第25-26页 |
·膜层耐腐蚀性能测试 | 第26-27页 |
第三章 实验结果与分析 | 第27-49页 |
·TiN 膜 | 第27-39页 |
·脉冲负偏压对7075 铝合金衬底上TiN 膜层的表面形貌影响 | 第27页 |
·脉冲负偏压对7075 铝合金衬底上TiN 膜层的成分的影响 | 第27-30页 |
·脉冲负偏压对7075 铝合金衬底上TiN 膜层的结构的影响 | 第30-32页 |
·脉冲负偏压对7075 铝合金衬底上TiN 沉积膜的生长速率的影响 | 第32-34页 |
·脉冲偏压对7075 铝合金衬底上TiN 生长膜与衬底的界面的影响 | 第34-36页 |
·不同沉积时间下的TiN 沉积膜 | 第36-39页 |
·Ti/ TiN 多层膜 | 第39-49页 |
·铝合金衬底上沉积的Ti/TiN 多层膜表面形貌及横断面形貌 | 第39-42页 |
·铝合金衬底上沉积的Ti/TiN 多层膜横截面能谱线扫描 | 第42-44页 |
·铝合金衬底上沉积的Ti/TiN 多层膜X 射线衍射分析 | 第44-45页 |
·铝合金衬底上不同单层膜厚度的Ti/TiN 多层膜耐腐蚀性 | 第45-49页 |
第四章 结论 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-54页 |
在学研究成果 | 第54-55页 |
致谢 | 第55页 |