| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-33页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·磁约束核聚变环境与相关的材料研究 | 第10-16页 |
| ·磁约束核聚变的基本原理和 ITER 装置 | 第11-13页 |
| ·磁约束聚变堆内材料的服役环境与材料选择 | 第13-16页 |
| ·材料在辐照损伤环境下的行为 | 第16-25页 |
| ·辐照损伤环境概述 | 第17-19页 |
| ·辐照损伤的具体作用过程 | 第19-23页 |
| ·Si 基片——典型的辐照损伤研究对象 | 第23-24页 |
| ·Mo-Re 合金——在辐照损伤环境中实际应用的材料 | 第24-25页 |
| ·材料在强磁场环境作用下的行为 | 第25-31页 |
| ·强磁场环境综述 | 第26-27页 |
| ·强磁场对材料的常见影响作用模式 | 第27-30页 |
| ·强磁场环境作用于顺磁性 V_20_5 的结晶过程 | 第30-31页 |
| ·强磁环境中的 Fe 纳米棒阵列薄膜 | 第31页 |
| ·本文的研究内容及其意义 | 第31-33页 |
| 第2章 实验方法和实验设备介绍 | 第33-42页 |
| ·实验内容 | 第33页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第33-34页 |
| ·实验过程 | 第34-42页 |
| ·基片的清洗方法 | 第34页 |
| ·薄膜制备 | 第34-37页 |
| ·离子束轰击处理 | 第37-38页 |
| ·磁场热退火 | 第38-39页 |
| ·形貌测量与显微分析 | 第39-40页 |
| ·物相结构分析 | 第40页 |
| ·性能测试 | 第40-42页 |
| 第3章 Xe~+轰击单晶 Si 表面 | 第42-59页 |
| ·离子轰击实验方案与条件参数选择 | 第42-44页 |
| ·单晶Si 基片表面的形貌与结构变化 | 第44-49页 |
| ·SEM 观察结果 | 第44-46页 |
| ·白光干涉表面形貌仪分析结果 | 第46-48页 |
| ·Raman 光谱分析结果 | 第48-49页 |
| ·单晶Si 基片表面形貌变化的规律总结与原理分析 | 第49-54页 |
| ·表面形貌变化与离子轰击条件的关系 | 第50-51页 |
| ·TEM 观察损伤区截面和SRIM 程序模拟 | 第51-53页 |
| ·离子轰击对材料表面损伤情况——表面粗糙度分析 | 第53-54页 |
| ·辐照后单晶Si 基片表面的性能变化 | 第54-58页 |
| ·表面电阻性能测试 | 第55页 |
| ·纳米碳管的选择性生长 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第4章 Xe~+轰击钼铼合金薄膜 | 第59-75页 |
| ·Mo-Re 合金薄膜的制备 | 第59-65页 |
| ·用磁控溅射法制备Mo-Re 合金薄膜 | 第60页 |
| ·控制合金薄膜的厚度与成份 | 第60-63页 |
| ·合金薄膜的形貌、成分和结构分析 | 第63-65页 |
| ·离子轰击实验方案与参数选择 | 第65页 |
| ·轰击后合金薄膜的表面状况 | 第65-69页 |
| ·表面溅射深度和粗糙度的测量 | 第66页 |
| ·Re 含量对薄膜表面溅射行为的影响 | 第66-69页 |
| ·轰击后合金薄膜的内部结构变化 | 第69-74页 |
| ·晶体析出物 | 第69-71页 |
| ·非晶区域及其形成过程 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第5章 在强磁场中制备V_20_5 纳米结构 | 第75-90页 |
| ·V_20_5 薄膜的制备 | 第75-78页 |
| ·热氧化法制备V_20_3 薄膜 | 第76-77页 |
| ·进一步退火处理得到V_20_5 | 第77-78页 |
| ·在强磁场中制备V_20_5 纳米结构 | 第78-79页 |
| ·磁场条件对薄膜的影响 | 第79-86页 |
| ·磁场对薄膜形貌的影响 | 第79-81页 |
| ·磁场对晶体结构的影响 | 第81-82页 |
| ·磁场对发光性能的影响 | 第82-86页 |
| ·强磁场对氧化钒纳米结构的作用机理解释 | 第86-89页 |
| ·强磁场对氧化钒材料的作用模式 | 第86-87页 |
| ·磁场对氧化钒结晶过程的影响 | 第87-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 第6章 强磁场调控铁纳米棒阵列的取向 | 第90-107页 |
| ·铁纳米棒阵列的制备 | 第90-93页 |
| ·倾斜生长法制备铁纳米结构 | 第91页 |
| ·铁纳米棒阵列的磁各向异性 | 第91-93页 |
| ·设计调控铁纳米棒阵列取向的方案 | 第93-99页 |
| ·强磁场与铁纳米棒的作用 | 第93-95页 |
| ·使铁纳米棒获得转动自由度 | 第95-97页 |
| ·研究 Au 薄膜的退火特性 | 第97-99页 |
| ·强磁场对 Fe 纳米棒阵列的作用 | 第99-102页 |
| ·在 Au 薄膜上斜生长 Fe 纳米棒 | 第99-100页 |
| ·在强磁场中进行真空退火 | 第100页 |
| ·退火处理对纳米棒阵列的作用效果 | 第100-102页 |
| ·旋转过程前后 Fe 纳米棒阵列的变化 | 第102-106页 |
| ·纳米棒阵列的结构形貌变化 | 第103-104页 |
| ·薄膜的磁性能变化 | 第104-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 第7章 全文总结 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-116页 |
| 致谢 | 第116-118页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第118页 |