电容式微机械陀螺仪的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·课题背景及研究意义 | 第9-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-16页 |
| ·本论文工作内容 | 第16-19页 |
| 第二章 微机械陀螺仪的基础理论 | 第19-31页 |
| ·科里奥利加速度 | 第19-21页 |
| ·静电驱动原理 | 第21-23页 |
| ·电容检测原理 | 第23-24页 |
| ·拉格朗日方程 | 第24-26页 |
| ·动力学分析 | 第26-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 微机械陀螺仪的有限元分析 | 第31-43页 |
| ·有限元分析与ANSYS简介 | 第31-33页 |
| ·有限元法介绍 | 第31页 |
| ·有限元方法分析步骤 | 第31-33页 |
| ·微机械陀螺仪的模态分析 | 第33-39页 |
| ·模态分析理论 | 第34-35页 |
| ·微机械陀螺仪的结构和工作原理 | 第35-36页 |
| ·微机械陀螺仪的有限元模态分析 | 第36-39页 |
| ·微机械陀螺仪的结构优化设计 | 第39-42页 |
| ·驱动梁的宽度的变化 | 第40页 |
| ·检测梁的宽度的变化 | 第40-41页 |
| ·检测梁的长度的变化 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 微机械陀螺仪的工艺 | 第43-53页 |
| ·MEMS工艺概述 | 第43-45页 |
| ·衬底材料的选择 | 第43-44页 |
| ·净化和清洗 | 第44页 |
| ·光刻 | 第44页 |
| ·氧化 | 第44-45页 |
| ·干法刻蚀 | 第45页 |
| ·湿法刻蚀 | 第45页 |
| ·微机械陀螺仪的MEMS工艺设计与实现 | 第45-51页 |
| ·准备材料 | 第45-46页 |
| ·硅片的清洗 | 第46页 |
| ·氧化 | 第46-47页 |
| ·光刻 | 第47页 |
| ·干法刻蚀 | 第47-48页 |
| ·湿法腐蚀 | 第48页 |
| ·阳极键合 | 第48-49页 |
| ·硅片背面光刻 | 第49页 |
| ·干法刻蚀背面硅 | 第49-51页 |
| ·工艺讨论 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 微机械陀螺仪的测试研究 | 第53-65页 |
| ·驱动电路的分析 | 第53-55页 |
| ·检测电路的分析 | 第55-57页 |
| ·难点分析 | 第55页 |
| ·微弱信号检测原理 | 第55-57页 |
| ·裸芯片测试 | 第57-60页 |
| ·测试系统原理分析 | 第57-58页 |
| ·测试系统整体框图 | 第58页 |
| ·测试设备与步骤 | 第58-60页 |
| ·测试结果 | 第60-61页 |
| ·测试讨论 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·总结 | 第65页 |
| ·展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读硕士期间取得的成果 | 第72页 |
