| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 文献综述 | 第9-25页 |
| ·WO_3的结构、性质、应用与制备 | 第9-11页 |
| ·WO_3的基本性质和结构 | 第9页 |
| ·WO_3的半导体特性及应用 | 第9-10页 |
| ·WO_3的制备 | 第10-11页 |
| ·WO_3半导体催化光解水 | 第11-15页 |
| ·光解水的基本原理及方法 | 第11-13页 |
| ·WO_3光解水简述 | 第13-14页 |
| ·WO_3光催化活性的影响因素 | 第14-15页 |
| ·WO_3光催化剂能带和电子结构调节 | 第15-18页 |
| ·贵金属负载 | 第15页 |
| ·复合半导体 | 第15-16页 |
| ·金属离子掺杂 | 第16页 |
| ·非金属掺杂 | 第16-18页 |
| ·WO_3光催化剂的纳米化和器件化 | 第18-20页 |
| ·WO_3纳米孔道结构的制备 | 第18-19页 |
| ·WO_3光催化剂的器件化 | 第19-20页 |
| ·阳极氧化WO_3纳米多孔膜的制备 | 第20-24页 |
| ·阳极氧化纳米多孔膜的生长机理 | 第20-21页 |
| ·阳极氧化法制备纳米管现状 | 第21-23页 |
| ·WO_3阳极氧化纳米多孔膜的制备 | 第23-24页 |
| ·本课题的选题意义与研究思路 | 第24-25页 |
| 第2章 实验部分 | 第25-31页 |
| ·主要仪器与试剂 | 第25-26页 |
| ·非金属掺杂WO_3粉体的制备 | 第26页 |
| ·纳米多孔WO_3薄膜的制备 | 第26-28页 |
| ·光催化剂的表征手段 | 第28页 |
| ·粉体WO_3的光解水析氧活性研究 | 第28-29页 |
| ·纳米多孔WO_3薄膜的光电化学及光解水性能研究 | 第29-31页 |
| 第3章 氟、硫掺杂WO_3粉体的制备及其光解水活性 | 第31-47页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·掺杂WO_3粉体的表征 | 第31-42页 |
| ·化学组成及形态 | 第31-35页 |
| ·表面形貌 | 第35-36页 |
| ·晶体结构 | 第36-39页 |
| ·光吸收性能 | 第39-41页 |
| ·电子传输性能 | 第41-42页 |
| ·掺杂WO_3粉体的光解水析氧活性 | 第42-46页 |
| ·氟掺杂WO_3的光解水活性 | 第44页 |
| ·硫掺杂WO_3的光解水活性 | 第44-45页 |
| ·掺杂浓度和温度影响光解水活性的原因探讨 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 纳米多孔WO_3薄膜的制备及其光解水活性 | 第47-75页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·阳极氧化过程及产物形貌 | 第47-57页 |
| ·WO_3纳米多孔膜的形成过程 | 第47-51页 |
| ·纳米多孔膜形成过程的初始化 | 第51-53页 |
| ·反应时间对纳米多孔膜形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·反应温度对纳米多孔膜形貌的影响 | 第55-57页 |
| ·阳极氧化膜的化学组成及晶体结构 | 第57-59页 |
| ·化学组成 | 第57页 |
| ·晶体结构 | 第57-59页 |
| ·WO_3纳米多孔膜的光电化学性能 | 第59-69页 |
| ·稳态光电流谱及光电转换效率 | 第59-61页 |
| ·电化学交流阻抗谱及Mott-Schottky模拟 | 第61-65页 |
| ·瞬态光电流谱 | 第65-69页 |
| ·不同反应条件对WO_3纳米多孔膜光电化学活性的影响 | 第69-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第5章 全文结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第92页 |
