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等离子体时域有限差分算法及其应用研究

摘要第1-6页
Abstract第6-17页
第一章 绪论第17-25页
   ·研究的背景及意义第17-18页
   ·电磁波在等离子体中传播的研究现状第18-19页
   ·电磁波在等离子体中传播的研究方法概述第19-22页
   ·本文的主要创新点和章节安排第22-25页
     ·论文的主要创新点第22-23页
     ·论文的章节安排第23-25页
第二章 等离子体梯形递归卷积FDTD 算法第25-44页
   ·前言第25页
   ·非磁化等离子体TRC-FDTD 算法及有效性验证第25-31页
     ·非磁化等离子体TRC-FDTD 算法第25-29页
     ·非磁化等离子体TRC-FDTD 算法有效性验证第29-31页
   ·磁化等离子体TRC-FDTD 算法及有效性验证第31-43页
     ·磁化等离子体TRC-FDTD 算法第31-35页
     ·离散情况下磁化等离子体三维TRC-FDTD 迭代公式第35-39页
     ·磁化等离子体TRC-FDTD 算法有效性验证第39-43页
   ·本章小结第43-44页
第三章 等离子体龙格库塔指数时程差分FDTD 算法第44-80页
   ·前言第44页
   ·非磁化等离子体RKETD-FDTD 算法及有效性验证第44-49页
     ·非磁化等离子体RKETD-FDTD 算法第44-47页
     ·非磁化等离子体RKETD-FDTD 算法的有效性验证第47-49页
   ·非磁化等离子体RKETD-FDTD 算法的数值误差分析第49-54页
     ·非磁化等离子体RKETD-FDTD 算法的数值色散关系第49-51页
     ·非磁化等离子体RKETD-FDTD 算法的数值色散误差和耗散误差第51-54页
   ·磁化等离子体RKETD-FDTD 算法及有效性验证第54-66页
     ·磁化等离子体RKETD-FDTD 算法第54-57页
     ·离散情况下磁化等离子体三维RKETD-FDTD 迭代公式第57-60页
     ·磁化等离子体RKETD-FDTD 算法的有效性验证第60-66页
   ·磁化等离子体RKETD-FDTD 算法的数值色散误差及稳定性分析第66-70页
     ·磁化等离子体RKETD-FDTD 算法的数值色散误差分析第66-68页
     ·磁化等离子体RKETD-FDTD 算法的数值稳定性分析第68-70页
   ·等离子体中电磁波垂直外磁场方向传播时的RKETD-FDTD 方法第70-78页
     ·等离子体中垂直外磁场方向传播时电磁波的色散关系第71-73页
     ·等离子体中电磁波垂直外磁场方向传播时RKETD-FDTD 迭代公式第73-74页
     ·等离子体中电磁波垂直外磁场方向传播时RKETD-FDTD 算例第74-78页
   ·本章小结第78-80页
第四章 等离子体矩阵指数FDTD 算法第80-92页
   ·前言第80页
   ·等离子体ME-FDTD 算法迭代公式第80-83页
   ·等离子体ME-FDTD 算法的有效性验证第83-87页
   ·等离子体ME-FDTD 算法数值色散关系及数值误差分析第87-91页
     ·等离子体ME-FDTD 算法的数值色散关系第87-88页
     ·等离子体ME-FDTD 算法的数值色散误差和耗散误差分析第88-91页
   ·本章小结第91-92页
第五章 等离子体高阶无条件稳定FDTD 算法第92-100页
   ·前言第92页
   ·等离子体高阶ADI-FDTD 算法迭代公式第92-94页
   ·高阶ADI-FDTD 算法数值稳定性及色散误差分析第94-99页
     ·高阶ADI-FDTD 算法数值稳定性分析第94-96页
     ·等离子体高阶ADI-FDTD 算法数值色散误差分析第96-99页
   ·本章小结第99-100页
第六章 等离子体涂覆目标的电磁散射特性FDTD 分析第100-117页
   ·前言第100页
   ·非均匀分布等离子体涂覆导体柱双站散射特性第100-103页
     ·均匀与非均匀分布等离子体涂覆层对导体柱双站RCS 的影响第101-102页
     ·不同等离子体涂覆层厚度对导体柱双站RCS 的影响第102页
     ·不同等离子体碰撞频率对导体柱双站RCS 的影响第102-103页
   ·非均匀时变等离子体涂覆导体圆柱后向电磁散射第103-106页
     ·等离子体涂层厚度对抛物线分布涂覆导体圆柱后向RCS 的影响第104页
     ·弛豫时间对抛物线时变分布等离子体涂覆导体圆柱后向RCS 的影响第104-105页
     ·梯度因子对Epstein 分布涂覆导体圆柱后向RCS 的影响第105-106页
     ·弛豫时间对Epstein 时变分布涂覆导体柱后向RCS 的影响第106页
   ·非均匀时变磁化等离子体涂覆目标的双站RCS第106-110页
     ·涂层厚度对抛物线分布磁化等离子体涂覆柱体双站RCS 的影响第106-107页
     ·电子回旋频率对抛物线分布磁化等离子体涂覆柱体双站RCS 的影响第107-108页
     ·弛豫时间对抛物线分布时变磁化等离子体涂覆柱体双站RCS 的影响第108-109页
     ·梯度因子对Epstein 分布磁化等离子体涂覆柱体双站RCS 的影响第109-110页
     ·弛豫时间对Epstein 分布时变磁化等离子体涂覆柱体双站RCS 的影响第110页
   ·非均匀分布、非磁化等离子体涂覆导体球的单站RCS第110-111页
   ·磁化等离子体涂覆三维目标的电磁散射特性第111-115页
     ·磁化等离子体涂覆球锥体的双站RCS第111-114页
     ·磁化等离子体涂覆Von Karman 导体模型的双站RCS第114-115页
   ·本章小结第115-117页
第七章 等离子体光子晶体的电磁特性FDTD 分析第117-141页
   ·前言第117页
   ·均匀分布等离子体光子晶体的光子带隙特性第117-120页
     ·均匀分布等离子体光子晶体仿真模型及FDTD 算法第117-118页
     ·均匀分布等离子体光子晶体光子带隙特性第118-120页
   ·非均匀分布等离子体光子晶体光子带隙特性第120-124页
     ·非均匀分布等离子体光子晶体仿真模型及FDTD 算法第120-122页
     ·非均匀分布等离子体光子晶体光子带隙特性第122-124页
   ·基于法拉第磁光效应磁化等离子体光子晶体光子带隙特性第124-131页
     ·外磁场平行作用下等离子体色散关系理论分析第124-126页
     ·磁化离子体光子晶体仿真的FDTD 算法第126-127页
     ·磁化等离子体光子晶体光子带隙特性第127-131页
   ·基于横磁光效应磁化等离子体光子晶体的光子带隙特性第131-135页
     ·外磁场垂直作用下等离子体色散关系理论分析第131-132页
     ·磁化离子体光子晶体仿真的FDTD 算法第132页
     ·磁化等离子体光子晶体光子带隙特性第132-135页
   ·基于可调等离子体缺陷层等离子体光子晶体的滤波特性分析第135-140页
     ·等离子体光子晶体仿真模型及FDTD 算法第135-136页
     ·等离子体光子晶体滤波特性第136-140页
   ·本章小结第140-141页
第八章 结束语第141-143页
参考文献第143-154页
致谢第154-155页
在学期间的研究成果及发表的学术论文第155-156页

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