摘要 | 第8-9页 |
Abstract | 第9-10页 |
第1章 绪论 | 第11-20页 |
1.1 研究的背景及意义 | 第11页 |
1.2 非晶材料及铁基非晶的研究现状 | 第11-14页 |
1.2.1 非晶材料及非晶涂层的研究现状 | 第11-13页 |
1.2.2 铁基非晶材料及其涂层的研究现状 | 第13-14页 |
1.3 热喷涂技术制备非晶涂层研究现状 | 第14-16页 |
1.3.1 热喷涂技术的特点 | 第14-15页 |
1.3.2 等离子喷涂制备铁基非晶涂层的研究现状 | 第15-16页 |
1.4 激光熔覆技术制备非晶涂层的研究现状 | 第16-18页 |
1.4.1 激光熔覆技术的特点 | 第16-17页 |
1.4.2 激光熔覆非晶涂层的研究现状 | 第17-18页 |
1.5 本文研究内容及主要创新性 | 第18-20页 |
1.5.1 本文研究内容 | 第18-19页 |
1.5.2 本文主要创新性 | 第19-20页 |
第2章 试验材料、方法及设备 | 第20-29页 |
2.1 实验材料 | 第20-21页 |
2.1.1 基体材料 | 第20页 |
2.1.2 熔覆材料 | 第20-21页 |
2.2 主要实验仪器及设备 | 第21-25页 |
2.2.1 等离子喷涂设备 | 第21-22页 |
2.2.2 半导体激光熔覆系统 | 第22页 |
2.2.3 光纤激光熔覆系统 | 第22-24页 |
2.2.4 光学金相显微镜 | 第24页 |
2.2.5 扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
2.3 实验研究方法 | 第25-29页 |
2.3.1 实验流程 | 第25页 |
2.3.2 金相试样制备及物相组成分析 | 第25-26页 |
2.3.3 涂层性能测试方法 | 第26-29页 |
第3章 不同方法制备铁基非晶涂层的工艺研究 | 第29-41页 |
3.1 等离子喷涂制备铁基非晶涂层的工艺研究 | 第29-31页 |
3.1.1 喷涂前基板的前期处理与工艺参数选择 | 第29页 |
3.1.2 涂层的微观形貌与物相组成分析 | 第29-30页 |
3.1.3 涂层的显微硬度与结合强度分析 | 第30-31页 |
3.2 半导体激光与预置粉末方式制备非晶涂层的工艺研究 | 第31-33页 |
3.2.1 熔覆前试板及粉末的前期处理 | 第32页 |
3.2.2 激光熔覆涂层的宏观形貌分析 | 第32-33页 |
3.3 光纤激光重熔等离子涂层的工艺研究 | 第33-35页 |
3.3.1 喷涂前基板的前期处理 | 第33-34页 |
3.3.2 光纤激光重熔涂层的宏观形貌分析 | 第34-35页 |
3.4 光纤激光与同轴送粉方式熔覆非晶涂层的工艺研究 | 第35-39页 |
3.4.1 不同功率对铁基非晶涂层的宏观形貌及成型特征的影响 | 第36-37页 |
3.4.2 不同功率制备铁基非晶涂层的组织结构分析 | 第37-38页 |
3.4.3 不同功率制备铁基非晶涂层的物相组成分析 | 第38-39页 |
3.4.4 不同功率制备铁基非晶涂层的显微硬度分析 | 第39页 |
3.5 本章小结 | 第39-41页 |
第4章 光纤激光熔覆铁基非晶涂层的组织与性能研究 | 第41-46页 |
4.1 两层单道熔覆对铁基非晶涂层的组织与性能的影响 | 第41-43页 |
4.1.1 两层单道熔覆制备铁基非晶涂层的形貌及微观结构 | 第41页 |
4.1.2 两层单道熔覆制备铁基非晶涂层的物相组成分析 | 第41-42页 |
4.1.3 两层单道熔覆制备铁基非晶涂层的显微硬度分析 | 第42-43页 |
4.2 两层多道熔覆对铁基非晶涂层的组织与性能的影响 | 第43-45页 |
4.2.1 两层多道熔覆制备铁基非晶涂层的宏观形貌 | 第43页 |
4.2.2 两层多道熔覆制备铁基非晶涂层的组织结构分析 | 第43页 |
4.2.3 两层多道熔覆制备铁基非晶涂层的物相分析 | 第43-44页 |
4.2.4 两层多道熔覆制备铁基非晶涂层的显微硬度分析 | 第44-45页 |
4.3 本章小结 | 第45-46页 |
第5章 铁基非晶涂层的腐蚀性与摩擦磨损性能研究 | 第46-53页 |
5.1 铁基非晶涂层的电化学腐蚀性能 | 第46-47页 |
5.2 铁基非晶涂层的摩擦磨损性能 | 第47-52页 |
5.2.1 铁基非晶涂层的摩擦系数 | 第47-48页 |
5.2.2 铁基非晶涂层的磨损形貌及磨损机理分析 | 第48-52页 |
5.3 本章小结 | 第52-53页 |
结论与展望 | 第53-55页 |
参考文献 | 第55-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第61页 |