摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-16页 |
1.1 研究背景和意义 | 第8-10页 |
1.2 激光熔化沉积技术 | 第10-14页 |
1.2.1 激光熔化沉积原理及特点 | 第10-11页 |
1.2.2 影响激光熔化沉积的因素 | 第11-14页 |
1.3 钨材料增材制造研究现状 | 第14-15页 |
1.4 研究目的、意义和研究内容 | 第15-16页 |
1.4.1 研究目的和意义 | 第15页 |
1.4.2 研究内容 | 第15-16页 |
第二章 实验与设备 | 第16-30页 |
2.1 实验材料 | 第16-17页 |
2.1.1 粉末材料 | 第16页 |
2.1.2 基体材料 | 第16-17页 |
2.2 激光设备选择及前期工艺探索 | 第17-24页 |
2.2.1 激光设备选择 | 第17-18页 |
2.2.2 前期工艺探索 | 第18-24页 |
2.3 样品制备 | 第24-25页 |
2.3.1 前期准备 | 第24-25页 |
2.3.2 激光熔化沉积过程及工艺 | 第25页 |
2.4 组织形貌、成分及显微硬度表征 | 第25-28页 |
2.4.1 金相样品的制备 | 第25-26页 |
2.4.2 光学显微镜观察 | 第26页 |
2.4.3 扫描电子显微镜(SEM)观察 | 第26-27页 |
2.4.4 透射电子显微镜(TEM)观察 | 第27页 |
2.4.5 X射线衍射(XRD)测试 | 第27页 |
2.4.6 显微硬度测试 | 第27-28页 |
2.5 小结 | 第28-30页 |
第三章 310S不锈钢表面激光熔化沉积纯钨工艺优化实验 | 第30-46页 |
3.1 宏观形貌 | 第30-31页 |
3.2 单层沉积层的微观形貌 | 第31-35页 |
3.3 多层沉积层的微观形貌 | 第35-42页 |
3.3.1 三层熔覆层的SEM图像分析 | 第35-36页 |
3.3.2 四层熔覆层的SEM图像分析 | 第36-39页 |
3.3.3 四层熔覆层的TEM图像分析 | 第39-42页 |
3.4 显微硬度 | 第42-43页 |
3.5 小结 | 第43-46页 |
第四章 低活化钢表面激光熔化沉积纯钨实验 | 第46-64页 |
4.1 宏观形貌 | 第46页 |
4.2 微观形貌 | 第46-57页 |
4.2.1 单道沉积层的微观形貌 | 第47-50页 |
4.2.2 多道沉积层的微观形貌 | 第50-57页 |
4.3 不同工艺参数对沉积层的影响 | 第57-63页 |
4.3.1 不同工艺参数对单道沉积层宏观尺寸及开裂的影响 | 第57-60页 |
4.3.2 不同工艺参数对沉积层W含量和硬度的影响 | 第60-63页 |
4.4 小结 | 第63-64页 |
第五章 厚钨层制备及热性能测试 | 第64-76页 |
5.1 工艺优化 | 第64-70页 |
5.1.1 提高激光扫描速度 | 第64-66页 |
5.1.2 增加基材厚度和散热面积 | 第66-69页 |
5.1.3 厚沉积层的制备 | 第69-70页 |
5.2 热性能测试 | 第70-74页 |
5.2.1 热性能测试过程 | 第70-71页 |
5.2.2 310S不锈钢表面钨涂层的热性能测试 | 第71-72页 |
5.2.3 RAFM表面钨涂层的热性能测试 | 第72-74页 |
5.3 小结 | 第74-76页 |
第六章 钨材料本构关系研究及缺陷分析 | 第76-88页 |
6.1 本构关系 | 第76-82页 |
6.1.1 金属材料断裂原因分析 | 第76页 |
6.1.2 Matlab灰度处理图像法 | 第76-77页 |
6.1.3 本构方程的建立 | 第77-79页 |
6.1.4 本构方程中各物理量的计算 | 第79-80页 |
6.1.5 沉积层中应力-应变的计算 | 第80-82页 |
6.2 RAFM-W沉积层气孔和裂纹分析 | 第82-86页 |
6.2.1 单道沉积层裂纹 | 第82-83页 |
6.2.2 多道单层沉积层裂纹 | 第83-85页 |
6.2.3 气孔及其附近裂纹 | 第85-86页 |
6.3 小结 | 第86-88页 |
第七章 总结与展望 | 第88-90页 |
7.1 总结 | 第88页 |
7.2 展望 | 第88-90页 |
参考文献 | 第90-96页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第96-98页 |
个人简历 | 第96页 |
发表论文 | 第96页 |
参加科研情况 | 第96-98页 |
附录1 MATLAB灰度处理程序 | 第98-100页 |
致谢 | 第100页 |