| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 文献综述 | 第8-26页 |
| 1.1 研究的背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 金属氧化物光电催化剂及其作用机理 | 第9-13页 |
| 1.2.1 适合光电催化的半导体材料 | 第9-10页 |
| 1.2.2 半导体光电催化原理 | 第10-13页 |
| 1.3 金属氧化物光电催化的应用 | 第13-15页 |
| 1.3.1 能源光电催化 | 第13-14页 |
| 1.3.2 环境光电催化 | 第14-15页 |
| 1.3.3 光电催化应用前景 | 第15页 |
| 1.4 金属氧化物改性 | 第15-24页 |
| 1.4.1 构建异质结 | 第15-17页 |
| 1.4.2 氧缺陷型BiVO_4 | 第17-19页 |
| 1.4.3 金属离子掺杂 | 第19-22页 |
| 1.4.4 非金属原子掺杂 | 第22-24页 |
| 1.5 论文工作的提出及研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 氧缺陷多层BiVO_4合成及光电性能 | 第26-42页 |
| 2.1 引言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验方法 | 第27-31页 |
| 2.2.1 实验材料和试剂 | 第27页 |
| 2.2.2 前驱体BiOI的合成 | 第27-28页 |
| 2.2.3 不同电化学沉积时间合成BiOI | 第28-29页 |
| 2.2.4 控制合成带有氧缺陷及V~(4+)的多层BiVO | 第29页 |
| 2.2.5 催化剂表征 | 第29-31页 |
| 2.3 结果分析与讨论 | 第31-40页 |
| 2.3.1 沉积层数对BiOI/BiVO_4的影响 | 第31-34页 |
| 2.3.2 催化剂中的氧缺陷/V~(4+) | 第34-35页 |
| 2.3.3 氧缺陷/V~(4+)对光学性能的影响 | 第35-36页 |
| 2.3.4 多层BiVO_4 光电化学性能 | 第36-40页 |
| 2.4 小结 | 第40-42页 |
| 第3章 Ni~(2+)掺杂BiVO_4 的制备及其光电催化性能 | 第42-54页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 实验方法 | 第42-44页 |
| 3.2.1 实验材料和试剂 | 第42-43页 |
| 3.2.2 Ni~(2+)掺杂BiVO_4的制备 | 第43-44页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第44-52页 |
| 3.3.1 材料表征 | 第44-49页 |
| 3.3.2 光电化学性能评价 | 第49-51页 |
| 3.3.3 Ni~(2+)掺杂对BiVO_4光电性能的影响 | 第51-52页 |
| 3.4 小结 | 第52-54页 |
| 第4章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 4.1 结论 | 第54页 |
| 4.2 工作中存在的不足及展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-66页 |
| 发表论文情况 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
